Gebraucht EVG / EV GROUP 620NT #9286955 zu verkaufen

EVG / EV GROUP 620NT
ID: 9286955
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2017
Mask aligner, 6" Top side and backside alignment Halogen light source 2017 vintage.
EVG/EV GROUP 620NT Maske Aligner von EVG ist eine Präzisions-Photolithographie-Ausrüstung der nächsten Generation. Es ist ein vielseitiges Werkzeug für hochauflösende Musterung in einer Vielzahl von Anwendungen, von MEMS/Sensoren bis hin zu Mikrofluidik und Optoelektronik. EVG 620NT eignet sich hervorragend für fortschrittliche, ultrafeine Fertigungstechnologien und bietet überlegene Ausrichtungsgenauigkeit und präzise Nachbelichtungsregistrierung. Die EV GROUP 620NT ist auch flexibel genug, um sich sofort an anspruchsvolle Strukturen und Substrate anzupassen. 620NT bietet eine feldoptimierte 5,2-Mikron-Punktgröße und bis zu 30 mJ/cm2 UV-Belichtungsquellen, die eine präzise Ausrichtung und Strukturierung ermöglichen. Die Aussetzungsköpfe des Systems können abhängig von der Quelle geschaltet werden, und es gibt auch eine 64-Bit-Aussetzung cha Geschwindigkeitskontrolle für die Feinabstimmung Ihr Aussetzungsprotokoll. Die Substratstufe weist eine berührungslose Servosteuerung auf, die mit einem hochauflösenden Encoder für Positionsmessungen eine Positionsgenauigkeit von Sub-Mikron erreichen kann. Es verfügt auch über Umweltkontrollen und eine aktive Workspace-Bildverarbeitungsmaschine für mehr Sicherheit. Die Ausrichtung der EVG/EV GROUP 620NT ist aufgrund der fortschrittlichen Wafer-zu-Masken-Zoomtechnologie hochgenau und wiederholbar. Das Werkzeug verfügt über eine erweiterte Identifizierung der Ausrichtungsmarke, die die genaue Registrierung von Mustern über eine Reihe verschiedener Substratmaterialien gewährleistet. Es verfügt auch über eine komplette Bibliothek mit Analysetools für die Alignment-Validierung und Prozessvalidierung sowie eine proprietäre voreingestellte Optimierungsengine. Schließlich umfasst die Anlage ein umfassendes Datenanalyse- und Messpaket, das eine detaillierte Prozessüberwachung und -bewertung ermöglicht. EVG 620NT Mask Aligner nutzt die neueste fortschrittliche Photolithographie-Technologie und bietet eine hohe Auflösung, Genauigkeit und Zuverlässigkeit für eine Reihe komplexer Fertigungsanwendungen. Wenn Sie eine einheitliche Strukturierung auf verschiedenen Substraten benötigen, ist EV GROUP 620NT das richtige Werkzeug für Sie. Es ist benutzerfreundlich, mit intuitiven Touchscreen-Bedienelementen und anwenderwählbaren Parametern für ultimative Flexibilität. Sie können 620NT vertrauen, jedes Mal zuverlässige, wiederholbare und präzise Muster bereitzustellen.
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