Gebraucht EVG / EV GROUP 620TBR #9207968 zu verkaufen

ID: 9207968
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2002
Automated mask aligner, 6" Topside alignment (TSA) Bottom side alignment (BSA) Automatic alignment (3) Cassette station ergo load cassette station Cassette to cassette handling (can also be operated in manual mode) Up to 6" wafer capable Can be operated in proximity, soft contact, hard contact / Vacuum contact exposure modes Exposure optics: Type C, 350 nm - 450 nm, broadband Lamphouse: 500 W Motorized alignment stage (x, y, theta directions) to the 3-Axis joystick Microsoft windows based user interface System PC, keyboard, cables Operations manual for EVG 620 2002 vintage.
EVG/EV GROUP 620TBR Mask Aligner ist ein fortschrittliches Gerät für hochauflösende Maskenausrichtung und Strukturierung. Es ist eine vollautomatisierte Wafer-basierte Ausrüstung, die Präzision und Genauigkeit bietet und gleichzeitig den Prozess der Erzeugung komplexer Muster vereinfacht. EVG 620TBR bietet eine sehr hohe Ausrichtungsgenauigkeit über den gesamten Waferbereich mit Zykluszeiten von Sekunden bis Minuten. Diese Maschine ist auch in der Lage, mit hochauflösender Strukturierung ertragreiche Ergebnisse zu erzielen. EV GROUP 620TBR ist mit fortschrittlicher Technologie ausgestattet, die es dem Anwender ermöglicht, verschiedene Muster genau auf einem einzigen Wafer zu positionieren und zu belichten. Es verfügt über ein hochauflösendes optisches Ausrichtungssystem und eine verdampfende Belichtungseinheit, die mit Abtastlinsen die Größe und Form eines Musters beim Projizieren auf den Wafer anpassen. 620TBR wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Substrattypen zu handhaben, darunter Industriefolien, Polarisatorelemente, Röntgenmaskenelemente und andere Dünnschichtmaterialien. Die Maschine ist auch in der Lage, mehrere Substrate mit hoher Präzision automatisch aufeinander auszurichten. EVG/EV GROUP 620TBR verwendet eine fortschrittliche Steuerungsmaschine, die benutzerdefinierte Ausrichtungsparameter bereitstellt und Feedback zu den Ausrichtungsergebnissen liefert. Jeder Wafer kann über den softwarebasierten Datenspeicher des Tools individuell überwacht werden. Die Maschine ermöglicht es Anwendern auch, eine Batch-Verarbeitung einzurichten, die die Strukturierung mehrerer Wafer mit konsistenten Ergebnissen und reduzierten Zeitanforderungen ermöglicht. EVG 620TBR verfügt über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie die Möglichkeit, die Wafer-Klemme zu verriegeln und einen Not-Aus-Knopf, mit dem Benutzer im Notfall alle Operationen schnell stoppen können. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer Reihe von Sicherheitssensoren ausgestattet, die die Umwelt aktiv überwachen und sicherstellen, dass gefährliche Bedingungen vermieden werden. EV GROUP 620TBR Maske Aligner ist ein ideales Werkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen, von der Nanolithographie bis zur Mikroelektronik. Neben seiner Präzision und Geschwindigkeit, seine benutzerfreundliche Schnittstelle und Sicherheitsfunktionen machen diese Maschine eine effiziente und zuverlässige Wahl für kommerzielle, industrielle und akademische Forschung.
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