Gebraucht EVG / EV GROUP 640 #293639247 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 640 ist ein automatisierter Maskenausrichter zur effizienten Strukturierung, Ausrichtung und Belichtung von Photomasken, die bei der Halbleiterherstellung verwendet werden. EVG 640 ist in der Lage, sowohl mit Quarz- als auch mit Chrom-auf-Quarz-Photomasken zu arbeiten und bietet die Flexibilität, Masken jeder Größe oder Form in einer Vielzahl von Prozessen zu mustern. Die EV GROUP 640 verwendet ein Robotersystem mit zwei Portalen mit einer Genauigkeit auf Mikroniveau, das die genaue Ausrichtung von Photomasken auf Wafersubstrate ermöglicht. Das Gerät ist in der Lage, einzelne Masken für Winkel und Position innerhalb einer einzigen Belichtung einzustellen, was mehr Flexibilität und robuste Positionierleistung bietet. Seine linearmotorisch angetriebenen Positionierer bieten in Kombination mit seinen hochauflösenden Encodern eine hohe Genauigkeit und Stabilität für die Ausrichtung der Photomaske. 640 verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche mit einer Vielzahl leicht zugänglicher Funktionen, die effiziente Arbeitsprozesse gewährleisten und Benutzerfehler minimieren. Es verfügt über einen intuitiven Controller mit Ebenendefinitionsfunktionen, differentieller Maskenplatzierung und Prozesswiederherstellungsfunktionen. Es enthält auch programmierbare, mehrstufige Strahlprofile, die nahtlos angepasst werden können, um die maximale Dosis auf dem kritischen Dimensionsniveau zu halten. Die EVG/EV GROUP 640 ist mit fortschrittlicher Software ausgestattet, die eine Vielzahl von Funktionen wie Fehlerinspektion, Prozesssteuerung, Datenerfassung und -analyse bietet. Die Software ermittelt für jede Maske die optimalen Belichtungsparameter wie Belichtungsbereich, Belichtungszeit, Beleuchtungswinkel und Mustervergrößerung. Es ermöglicht auch die einfache Ausführung von verschiedenen Arten von Operationen, wie Substratkompensation, Dosislatenz und Multiple Gate-Fähigkeit. Insgesamt ist EVG 640 ein leistungsstarker, fortschrittlicher Maskenausrichter, der für die hochpräzise Ausrichtung und Belichtung von Photomasken in einer Reihe von Substraten und Prozessen entwickelt wurde. Die ausgeklügelte Software und die intuitive Benutzeroberfläche bieten die Leistung und Benutzerfreundlichkeit, die für produktive, effiziente Maskenausrichtungs- und Belichtungsprozesse erforderlich sind.