Gebraucht EVG / EV GROUP 640 #293771584 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293771584
Wafergröße: 4"-8"
Mask aligner, 4"-8"
BSA
Non functional robot module
Backside alignment
Joystick
Operating system: Windows 2000
UV LED Light intensity:
365 nm 45 mW / cm2
405 nm 55 mW / cm2.
EVG/EV GROUP 640 ist ein vielseitiger Maskenausrichter, der in der Halbleiterindustrie für photolithographische Prozesse weit verbreitet ist. Dieses Präzisionswerkzeug spielt eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, indem es die genaue Strukturierung von Photolack auf Siliziumscheiben ermöglicht. EVG 640 ist speziell für die Handhabung verschiedener Substratgrößen bis 200 mm konzipiert, was es zu einer beliebten Wahl sowohl für Forschung als auch für Produktionsumgebungen macht. Eines der Hauptmerkmale der EV GROUP 640 ist die hohe Automatisierung und Präzision. Die Ausrüstung ist mit fortschrittlichen Ausrichtungs- und Belichtungsfunktionen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, die Ausrichtungsgenauigkeit von Sub-Mikron zu erreichen. Dies ist wesentlich, um die für moderne Halbleiterherstellungsprozesse erforderlichen engen Toleranzen zu erreichen. 640 bietet auch Vielseitigkeit in Bezug auf Substratmaterialien, so dass Benutzer mit einer breiten Palette von Materialien arbeiten können, einschließlich Silizium, Glas und Verbundhalbleiter. Der Maskenausrichter arbeitet nach dem Prinzip der Photolithographie, bei dem ein Muster aus einer Photomaske auf ein mit Photoresist beschichtetes Substrat übertragen wird. EVG/EV GROUP 640 verwendet eine kollimierte UV-Lichtquelle, um den Photolack freizulegen, wodurch eine gleichmäßige und genaue Strukturierung über das Substrat gewährleistet ist. Das System ist in der Lage, sowohl Näherungs- als auch Kontaktbelichtungsmodi zu handhaben und bietet Benutzern die Flexibilität, den am besten geeigneten Modus für ihre spezifische Anwendung zu wählen. Zusätzlich zu seinen Ausrichtungs- und Belichtungsfunktionen ist EVG 640 mit Funktionen ausgestattet, die die Produktivität und Benutzerfreundlichkeit verbessern. Das Gerät verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche, die eine einfache Programmierung und Steuerung der Ausrichtungs- und Belichtungsparameter ermöglicht. Es umfasst auch erweiterte Softwarefunktionen für automatisierte Ausrichtungs- und Belichtungsprozesse, wodurch der manuelle Eingriff reduziert und der Gesamtdurchsatz verbessert wird. Einer der Hauptvorteile der EV GROUP 640 ist ihre Modularität und Flexibilität. Die Maschine kann einfach konfiguriert werden, um die spezifischen Anforderungen verschiedener Anwendungen zu erfüllen und ist somit ein vielseitiges Werkzeug für eine Vielzahl von Forschungs- und Produktionsumgebungen. Benutzer können aus einer Vielzahl von optionalen Modulen und Zubehör wählen, um das Werkzeug an ihre individuellen Bedürfnisse anzupassen. Insgesamt ist 640 Masken-Aligner ein leistungsstarkes Werkzeug für hochpräzise Photolithographie-Prozesse in der Halbleiterindustrie. Mit seinen fortschrittlichen Ausrichtungs- und Belichtungsfähigkeiten, seiner Vielseitigkeit im Umgang mit verschiedenen Substratmaterialien und seiner benutzerfreundlichen Schnittstelle ist die EVG/EV GROUP 640 ein wertvolles Gut für Halbleiterhersteller und Forscher, die eine präzise Strukturierung auf Substraten bis 200 mm Größe erreichen möchten. Seine Automatisierungsfunktionen und Modularität machen es zu einem vielseitigen Werkzeug, das sich an eine breite Palette von Anwendungen anpassen kann und es zu einer beliebten Wahl in der Branche macht.
Es liegen noch keine Bewertungen vor