Gebraucht EVG / EV GROUP 640 #9210352 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 640 ist ein Masken-Aligner ist eine weit verbreitete Ausrüstung für hochgenaue Photolithographie für die Herstellung einer breiten Palette von Halbleiterbauelementen und fortschrittlichen photonischen Bauelementen. Es wurde optimiert, um hohe Mustertreue, hohen Durchsatz und genaue Ausrichtung für die Produktion und Halbleiterbauelementherstellung bereitzustellen. Das System verwendet 5-nm-Auflösungsausrichtung und 5-Nanometer-Schritt und Wiederholung, die weiter verbessert wurde, indem eine Rückkopplungseinheit verwendet wurde, die Substratverschiebung und eine feine Bewegungsstufe erfasst, um eine präzise Ausrichtungsgenauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Die Maschine verfügt über eine fortschrittliche Metrologie-Fähigkeit, die verbesserte Prozessleistung bietet, was bedeutet, dass Chip-Designer in der Lage sind, die Chip-Leistung zu maximieren. Das Tool ermöglicht eine breite Palette von Chipgrößen und Verpackungskonfigurationen sowie eine Vielzahl von Ausrichtungszielen wie Kontakt-, Interdigital-, Stapel- und Poly-Wafer-Techniken. Darüber hinaus kann das Asset nicht planare Formen wie kreisförmige, elliptische und andere Formen sowie klassische „U“ -Formen (vertikale Seitenwände) verarbeiten. Die Belichtungszeiten von EVG 640 sind schneller als andere konventionelle Lithographiesysteme, typischerweise erfordern nur 10 bis 20 ms Das Modell kann Subnanometer-Verzerrungen erkennen und ist in der Lage, hohe Auflösungen und Ausrichtungsgenauigkeiten zu erreichen. Die Optik des Geräts ist auch entworfen, um Flare zu minimieren und gleichzeitig die Geisterbildgebung zu reduzieren. Das System ist mit einer Schnelllastausrichtstufe ausgestattet, die eine schnelle Substratbelastung ermöglicht, und ein langlebiges Projektionsobjektiv ist im Lieferumfang enthalten. Das Gerät umfasst außerdem ein hochentwickeltes Softwarepaket und eine leistungsstarke grafische Benutzeroberfläche (GUI), die die Einrichtung und Steuerung der Maschine erleichtert. Diese Benutzeroberfläche ist einfach zu bedienen und bietet eine Vielzahl von Funktionen wie automatisierte Optimierung der Belichtungseinstellungen und Autofokus-Kalibrierung. Das Softwarepaket bietet zudem eine umfangreiche Palette genauer Mustersimulationsmöglichkeiten. EV GROUP 640 ist eine ideale Wahl für fortschrittliche Lithographieanwendungen in Forschung und Produktion. Aufgrund seines robusten Designs, seiner hervorragenden Leistung und seiner qualitativ hochwertigen Ergebnisse wurde es mehrfach für verschiedene Auszeichnungen in Kürze aufgeführt.