Gebraucht EVG / EV GROUP EV 640R #9175004 zu verkaufen

ID: 9175004
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1998-2000
Mask aligners, 6" 7" Mask Proximity / Soft contact / Hard contact TSA & BSA Automatic wafer handling Disassembled tool: Frame Stage Robot Lamp house Computer (3) GENMARK Robots with prealigner (3) 1kW Lamp controllers (2) Light intensity probes Printed documentation & manuals for both tools 1998-2000 vintage.
EVG/EV GROUP EV 640R Mask Aligner ist ein fortschrittliches Werkzeug, das entwickelt wurde, um eine genaue Ausrichtung zwischen Substraten und Maskenmustern für die Produktion photonischer, elektronischer und nanotechnologischer Komponenten in großen Mengen zu gewährleisten. EVG EV 640R eignet sich für den Einsatz in der Halbleiter-, MEM- und NEMS-Produktion, der optischen Lithographie, der mikrofluidischen Fertigung und anderen auf die Nanotechnologie ausgerichteten industriellen Prozessen. EV GROUP EV 640R Maske Aligner bietet eine präzise, hochgenaue Ausrichtung von bis zu 6,4 „x 6,4“ Substraten mit beugungsbegrenzter Perfektion in Kombination mit Langzeitstabilität. EV 640R verwendet zwei unabhängige Orbitalmotoren zur optimierten Positionierung und für eine schnelle, genaue Ausrichtung von Substraten und Maskenmustern. Dies ermöglicht eine kostengünstige Photolithographie-Verarbeitung, bei der die höchsten Auflösungsfunktionen mit weniger Zeit und Energieverbrauch erreicht werden können. EVG/EV GROUP EV 640R ist ideal für industrielle Anwendungen, die Nanometer-Ausrichtungsauflösungen erfordern. Das System nutzt die automatische fokussierte optische Erfassung und bietet eine automatische Ausrichtungsgenauigkeit von 70nm und darunter in Produktionsprozessen. Neben der präzisen Ausrichtung von Maske und Substraten kann mit EVG EV 640R auch der Abstand zwischen verschiedenen Punkten auf den Substraten exakt gemessen werden. EV GROUP EV 640R verwendet einen präzisen und zuverlässigen Schutzalgorithmus sowie eine hochgenaue Musterausrichtungserkennung. Dadurch wird sichergestellt, dass Muster auf dem Substrat und den Masken immer deckungsgleich sind. Das System verfügt außerdem über eine patentierte Indexier- und Nivelliertechnologie zur präzisen Planarisierung zwischen Substraten und Masken. Neben der Ausrichtgenauigkeit bietet EV 640R eine breite Palette von Optionen für eine verbesserte Produktivität. Dazu gehören automatische Wafer-Klemmung, hochgenaue Strahlsteuerung für präzises Overlay und eine optimierte Vakuumsteuerung für schonendes Handling von weichen Substraten. EVG/EV GROUP EV 640R bietet schnelle Produktionsraten und hohe Zuverlässigkeit. Die große Arbeitsfläche, das skalierbare Design und die schnelle Maskenumstellung machen EVG EV 640R zu einem wertvollen Gerät für Produktionsprozesse, die schnellen Durchsatz und Genauigkeit erfordern. Das System ist mit einem großen Touchscreen-Display und einer benutzerfreundlichen Oberfläche ausgestattet, wodurch EV GROUP EV 640R eine gute Wahl für diejenigen ist, die ihre Produktionseffizienz verbessern möchten.
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