Gebraucht EVG / EV GROUP IQ Aligner #293735310 zu verkaufen

ID: 293735310
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 2007
Mask aligner, 6"-8" Maximum separation: 300 µm Thickness: Mask aligner: 0.1 - 10 mm Bond aligner: 0.1 - 3 mm Alignment: X,Y Range +/- 5 mm Rotation: Theta +/- 3.5° 3-Axis joystick Resolution: 0.06 µm Mask aligner: 0.5 µm Bond aligner: 0.5 µm Exposure modes: Hard contact Soft contact Vacuum contact Vacuum + Hard contact Proximity Microscope objective range: Top side: X: 30 - 130 mm Y: +/- 65 mm - 150 mm Z: +/- 3 mm Bottom side: X: 30 - 100 mm Y: +/- 12 mm Z: +/- 5 mm Monitor / Camera: Power supply: 350 -500 W 2007 vintage.
EVG/EV GROUP IQ Aligner ist eine hochmoderne Maskenausrichtausrüstung, die für Anwendungen mit hoher Präzision und hohem Durchsatz in der Halbleiterlithographie entwickelt wurde. Dieses fortschrittliche Tool umfasst modernste Ausrichtungs- und Belichtungstechnologien, um eine genaue Strukturierung von Funktionen auf verschiedenen Substraten mit außergewöhnlicher Kontrolle und Wiederholbarkeit zu ermöglichen. Eines der Hauptmerkmale von EVG IQ Aligner ist seine erweiterte Ausrichtungsfähigkeit. Das System nutzt eine hochauflösende Ausrichtungskamera und ein Mikroskop, um eine präzise Ausrichtung von Maske und Substrat zu erreichen. Dadurch wird sichergestellt, dass Muster mit minimalen Overlay-Fehlern exakt auf das Substrat übertragen werden. Der Ausrichtungsprozess ist vollautomatisiert, wodurch der manuelle Eingriff reduziert und die Gesamtwirkung des Lithographieprozesses gesteigert wird. EV GROUP IQ Aligner bietet auch eine Reihe von Belichtungsmodi, um verschiedenen Lithographie-Anforderungen gerecht zu werden. Das Gerät unterstützt Näherungs-, Weich-, Hart- und Vakuumkontakt-Belichtungsmodi und ermöglicht es Benutzern, die am besten geeignete Belichtungstechnik basierend auf ihren spezifischen Anwendungsbedürfnissen auszuwählen. Diese Belichtungsmodi ermöglichen es der Maschine, eine breite Palette von Substraten zu handhaben, einschließlich Siliziumscheiben, Glassubstrate und flexible Substrate, so dass es eine vielseitige Lösung für verschiedene Halbleiterherstellungsprozesse. Zusätzlich zu seinen erweiterten Ausrichtungs- und Belichtungsfunktionen ist IQ Aligner mit einer Reihe innovativer Funktionen ausgestattet, die die Prozessflexibilität und -kontrolle verbessern sollen. Das Tool umfasst automatisierte Wafer-Handhabungs- und Ladefunktionen sowie softwaregesteuerte Belichtungsparameter zur einfachen Anpassung von Lithographieprozessen. Seine intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Bediener, Prozessparameter in Echtzeit zu überwachen und anzupassen, wodurch eine optimale Leistung und Reproduzierbarkeit gewährleistet ist. Darüber hinaus ist EVG/EV GROUP IQ Aligner für Produktionsumgebungen mit hohem Durchsatz konzipiert, mit schnellen Belichtungszeiten und effizienten Substrathandhabungsmechanismen. Die Anlage ist in der Lage, große Flächen des Substrats mit hoher Auflösung und Gleichmäßigkeit zu strukturieren, so dass es ideal für die Massenproduktion von Halbleiterbauelementen ist. Seine robuste Konstruktion und hochwertige Komponenten sorgen für langfristige Zuverlässigkeit und Stabilität auch in anspruchsvollen Fertigungsumgebungen. Insgesamt stellt EVG IQ Aligner eine hochmoderne Lösung für Halbleiterlithographieanwendungen dar, die beispiellose Präzision, Zuverlässigkeit und Flexibilität bietet. Seine fortschrittlichen Ausrichtungs- und Belichtungstechnologien, gepaart mit innovativen Funktionen für Prozesssteuerung und Automatisierung, machen es zu einem wertvollen Werkzeug für Halbleiterhersteller, die qualitativ hochwertige Musterergebnisse mit überlegener Produktivität und Effizienz erzielen möchten. EV GROUP IQ Aligner ist mit seiner überlegenen Leistung und seinen fortschrittlichen Fähigkeiten bestrebt, eine führende Wahl für Halbleiterlithographie-Prozesse in der Branche zu werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor