Gebraucht HTG 84-3 #9198923 zu verkaufen

Hersteller
HTG
Modell
84-3
ID: 9198923
Weinlese: 1986
UV Mask aligner With microscope UV Lamp power supply High resolution Sub-micron printing Contact and proximity exposures Scale production alignment capability Silicon, GaAs, LiNb, InP Consistent printing: Wafers Rectangular substrates Odd sized / Brittle materials Single or split field viewing Up to 600x magnification on the optics Alignment accuracy: ±1 µm Precise wafer to mask leveling Highly collimated UV/deep UV exposure systems Two channel intensity controlling power supply systems Stationary alignment tooling Vibration isolation console Differential micrometers Self planarizing chucks Wafer chuck and mask holder included Wafer chuck motions: X, Y, Z and ø (direct drive) Z-Axis adjustment: ±750µ Air-bearing planarization system Wafer / Substrate size: Up to 6.0" wafers / Square substrates Mask rotation: 180° Mask size: 7.0" x 7.0" Vacuum mask clamp Pneumatic mask assembly lift Front side alignment accuracy: <0.5µ Printing resolution: Near UV: <0.8µ Mid UV: <0.4µ Deep UV: <0.3µ Control functions: Power Test Substrate vacuum Mask vacuum Contact vacuum Expose Cycle Skip Mask lift N2 Purge Timer: 000.1 to 999.9 sec 0.1 increments Gauges: System vacuum Contact vacuum N2 1986 vintage.
HTG 84-3 ist ein Masken-Aligner, der bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es ist ein fortschrittliches Werkzeug, das Halbleitermasken mit höchster Präzision und Genauigkeit ausrichten und strukturieren kann. Zu den Hauptkomponenten von 84-3 gehören eine Maskenausrichthaupteinheit, eine Vakuumkammer und eine Vakuumausrüstung. Die Maskenaligner-Haupteinheit besteht aus einer X-Y-Stufe, einem Laserausrichtsystem und einer Vakuumeinheit. Die Maskenausrichtungshaupteinheit ist dafür zuständig, Maske, Laserprojektionsmaschine und Vakuumausrichtungsstufe an die entsprechende Stelle innerhalb der Vakuumkammer zu bewegen. Das Laserprojektionswerkzeug besteht aus einer Laserquelle, einem Kollimator und einer Reihe von Linsen, die Laserstrahlen auf die Maske und den Wafer projizieren, um sie auszurichten. Die Laserquelle ist normalerweise ein Helium-Neon (He-Ne) Laser. Der Kollimator dient dazu, den Laserstrahl auf einen kleinen Durchmesser der Maske oder des Wafers zu fokussieren. Zur Laserprojektion gehört auch ein Inspektionsmodell, mit dem Unregelmäßigkeiten in den Positionen und Formen von Maske und Wafer erkannt werden. Die Inspektionsausrüstung besteht aus einer Reihe von Kameras, die in der Lage sind, Bilder von Maske und Wafer zu erfassen und dann die Bilder mit vorprogrammierten Daten für Fehler zu vergleichen. Die Vakuumkammer dient zur Abdichtung von Maske und Wafer zur genauen Ausrichtung. Die Kammer enthält ein Vakuumsystem, das einen Druckaufbau verhindert, der die Genauigkeit des Ausrichtvorgangs stören kann. Die Vakuumanlage schützt auch Maske und Wafer vor Verunreinigungen durch Staubpartikel oder andere Abfälle. HTG 84-3 ist hochpräzise und präzise und kann Masken und Wafer innerhalb von 0,0025mm Genauigkeit ausrichten. Die Maschine ist auch schnell, in der Lage, eine Maske und einen Wafer innerhalb von 0,2 Sekunden auszurichten, und kann für eine Vielzahl von Anwendungen wie Kontakt- und berührungslose Masken verwendet werden. Insgesamt ist 84-3 ein vielseitiger und zuverlässiger Maskenausrichter, der für überlegene Leistung und Genauigkeit entwickelt wurde. Seine Präzision und Genauigkeit machen es zu einem wertvollen Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.
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