Gebraucht HTG 84-3 #9198923 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9198923
Weinlese: 1986
UV Mask aligner
With microscope
UV Lamp power supply
High resolution
Sub-micron printing
Contact and proximity exposures
Scale production alignment capability
Silicon, GaAs, LiNb, InP
Consistent printing:
Wafers
Rectangular substrates
Odd sized / Brittle materials
Single or split field viewing
Up to 600x magnification on the optics
Alignment accuracy: ±1 µm
Precise wafer to mask leveling
Highly collimated UV/deep UV exposure systems
Two channel intensity controlling power supply systems
Stationary alignment tooling
Vibration isolation console
Differential micrometers
Self planarizing chucks
Wafer chuck and mask holder included
Wafer chuck motions:
X, Y, Z and ø (direct drive)
Z-Axis adjustment: ±750µ
Air-bearing planarization system
Wafer / Substrate size: Up to 6.0" wafers / Square substrates
Mask rotation: 180°
Mask size: 7.0" x 7.0"
Vacuum mask clamp
Pneumatic mask assembly lift
Front side alignment accuracy: <0.5µ
Printing resolution:
Near UV: <0.8µ
Mid UV: <0.4µ
Deep UV: <0.3µ
Control functions:
Power
Test
Substrate vacuum
Mask vacuum
Contact vacuum
Expose
Cycle
Skip
Mask lift
N2 Purge
Timer:
000.1 to 999.9 sec
0.1 increments
Gauges:
System vacuum
Contact vacuum
N2
1986 vintage.
HTG 84-3 ist ein Masken-Aligner, der bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es ist ein fortschrittliches Werkzeug, das Halbleitermasken mit höchster Präzision und Genauigkeit ausrichten und strukturieren kann. Zu den Hauptkomponenten von 84-3 gehören eine Maskenausrichthaupteinheit, eine Vakuumkammer und eine Vakuumausrüstung. Die Maskenaligner-Haupteinheit besteht aus einer X-Y-Stufe, einem Laserausrichtsystem und einer Vakuumeinheit. Die Maskenausrichtungshaupteinheit ist dafür zuständig, Maske, Laserprojektionsmaschine und Vakuumausrichtungsstufe an die entsprechende Stelle innerhalb der Vakuumkammer zu bewegen. Das Laserprojektionswerkzeug besteht aus einer Laserquelle, einem Kollimator und einer Reihe von Linsen, die Laserstrahlen auf die Maske und den Wafer projizieren, um sie auszurichten. Die Laserquelle ist normalerweise ein Helium-Neon (He-Ne) Laser. Der Kollimator dient dazu, den Laserstrahl auf einen kleinen Durchmesser der Maske oder des Wafers zu fokussieren. Zur Laserprojektion gehört auch ein Inspektionsmodell, mit dem Unregelmäßigkeiten in den Positionen und Formen von Maske und Wafer erkannt werden. Die Inspektionsausrüstung besteht aus einer Reihe von Kameras, die in der Lage sind, Bilder von Maske und Wafer zu erfassen und dann die Bilder mit vorprogrammierten Daten für Fehler zu vergleichen. Die Vakuumkammer dient zur Abdichtung von Maske und Wafer zur genauen Ausrichtung. Die Kammer enthält ein Vakuumsystem, das einen Druckaufbau verhindert, der die Genauigkeit des Ausrichtvorgangs stören kann. Die Vakuumanlage schützt auch Maske und Wafer vor Verunreinigungen durch Staubpartikel oder andere Abfälle. HTG 84-3 ist hochpräzise und präzise und kann Masken und Wafer innerhalb von 0,0025mm Genauigkeit ausrichten. Die Maschine ist auch schnell, in der Lage, eine Maske und einen Wafer innerhalb von 0,2 Sekunden auszurichten, und kann für eine Vielzahl von Anwendungen wie Kontakt- und berührungslose Masken verwendet werden. Insgesamt ist 84-3 ein vielseitiger und zuverlässiger Maskenausrichter, der für überlegene Leistung und Genauigkeit entwickelt wurde. Seine Präzision und Genauigkeit machen es zu einem wertvollen Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor