Gebraucht JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 #293626847 zu verkaufen

JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 Mask Aligner, auch als „Stepper“ bekannt, ist eine Art Photolithographie-Ausrüstung, die verwendet wird, um Muster von einer Photomaske auf ein Substrat zu übertragen. Dieses Gerät wird üblicherweise bei der Herstellung von integrierten Schaltungen, LCD-Displays, Dünnschicht-Magnetköpfen, medizinischen Instrumenten und anderen Geräten verwendet. MA-4201 bietet eine präzise Ausrichtung von Masken und Substraten mit ausgefeilter Optik, Linsen und Feinpositionsanpassungen. JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 ist für hochpräzise Genauigkeit konzipiert, mit Fähigkeit zur Ausrichtung innerhalb von 0,1 Mikron. Es verwendet ein fortgeschrittenes Auto-Ausrichtungssystem, wobei das Substrat auf einer Bühne platziert wird, die mit Präzisionsmotorantrieben bewegt wird und Feinpositionseinstellungen ermöglicht. Das Auto-Alignment-System ermöglicht eine Echtzeiterkennung der Substratkoordinaten im Verhältnis zur verwendeten Photomaske. Darüber hinaus ist MA-4201 in der Lage, sehr detaillierte Belichtungsmuster einzelner Schichten und Elemente innerhalb eines Schaltungslayouts zu erfassen. JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 ist mit einem ausgeklügelten optischen System ausgestattet, das ein High-End-Mikroskop und eine UV-Lichtquelle umfasst. Dies dient zur genauen Ausrichtung der Photomaske auf das Substrat und kann je nach Anwendung eingestellt werden. Seine Genauigkeit wird durch den Einsatz ausgeklügelter Software-Algorithmen weiter verbessert, die eine verbesserte Fokussierung und Mustergenauigkeit bieten. MA-4201 kann mit einer Reihe von Photomasken und Substraten verwendet werden, was eine hochpräzise Ausrichtung in einer Vielzahl von Programmen ermöglicht. Darüber hinaus verfügt JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4201 über ein niedriges Stromverbrauchsdesign mit einer niedrigen Wärmeemissionsrate. Dadurch eignet es sich für den erweiterten Einsatz ohne thermische Beschädigung des Substrats. Dies ist besonders wichtig bei der Arbeit mit empfindlichen Prozessen wie Dünnschichtmagnetköpfen oder LCD-Displays. Insgesamt ist MA-4201 Mask Aligner ein hochentwickeltes Gerät für die Photolithographie. Es bietet hochpräzise Ausrichtungsmöglichkeiten mit einer Feinpositionsgenauigkeit von 0,1 Mikron. Seine ausgeklügelte Optik und Software ermöglicht eine Echtzeiterkennung der Substratkoordinaten in Bezug auf die Photomaske. Darüber hinaus ist es aufgrund seines geringen Stromverbrauchs und seiner Wärmeemissionsrate für den erweiterten Einsatz geeignet und trägt zur Vermeidung von thermischen Schäden bei.