Gebraucht JEC / JAPAN ENGINEERING COMPANY MA-2400 #9005623 zu verkaufen

JEC/JAPAN ENGINEERING Unternehmen MA-2400 Mask Aligner ist ein wesentliches Werkzeug für die Photolithographie, die präzise und wiederholbare Steuerung von Funktionen auf Halbleiterscheiben. Dieses hochautomatisierte Gerät ermöglicht eine genaue Registrierung von Photomasken auf Waferoberflächen, um präzise Schaltungsmuster mit extrem hoher Genauigkeit zu erzeugen. JEC MA-2400 Mask Aligner verfügt über eine hochgenaue zweistufige Musterausrüstung, die außergewöhnliche Leistung für Feinmusteranwendungen bietet. Die eingebaute Autocollimator und Image Processor Technologie ermöglicht eine präzise Ausrichtung der Maske auf den Wafer, mit einer Wiederholbarkeit von innerhalb 1 um. Die Software ist benutzerfreundlich und bietet automatisierte Parametereinstellungen und Wartungssteuerung für wiederholbare Prozesse. Das System kann Wafer von bis zu 8 Zoll/200 mm aufnehmen und Substrate mit einer Dicke von 25 µm bis 150 µm verarbeiten. Die Compact Dual Beam Unit ist einfach einzurichten und ermöglicht kürzere Zykluszeiten für Prozesse, die mit einer einzigen Strahlmaschine ausgeführt werden können. JAPAN ENGINEERING Unternehmen MA-2400 Mask Aligner ist ein sehr vielseitiges Werkzeug, das für verschiedene Anwendungen verwendet werden kann, einschließlich Kontaktdruck, Scannen und 1: 1-Replikation. Die mechanischen und optischen Teile der Anlage sind sehr aerodynamisch und für überlegene Leistung optimiert. MA-2400 Maske Aligner ist mit einem schnell heizenden Vakuumfutter ausgelegt, das auch bei Substraten bis 8 Zoll/200 mm Größe eine hohe Genauigkeit gewährleistet. Der Futterdruck ist in Abhängigkeit von der Dicke des Substrats einstellbar und die Futtertemperatur kann zur besseren Substratsteuerung eingestellt werden. JEC/JAPAN ENGINEERING Unternehmen MA-2400 Mask Aligner kann in einer Vielzahl von Reinraumumgebungen von Klasse 10 bis ISO 7 eingesetzt werden, so dass es eine ideale Wahl für empfindliche Prozesse. Darüber hinaus kann das Modell mit jeder Art von Polyarylat verwendet werden, so dass es in Verbindung mit säurebeständigen Materialien wie Polycarbonat verwendet werden kann. JEC MA-2400 Mask Aligner ist ein unschätzbares Werkzeug für die Photolithographie und bietet eine breite Palette von Funktionen und Vorteilen, um eine präzise, wiederholbare Kontrolle über feine Schaltungsmuster zu gewährleisten. Die hochautomatisierte Ausrüstung ist einfach zu installieren, zu bedienen und zu warten und bietet eine effektive Lösung für Photolithographie-Prozesse.