Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC 505 #9173271 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC 505 ist eine leistungsstarke Masken-Aligner-Ausrüstung, die zur Ausrichtung von Photomasken und Wafern in Anwendungen wie der Photolithographie entwickelt wurde. Es ist ein hochpräzises System mit integriertem Computercontroller, das eine Ausrichtgenauigkeit von bis zu 0,7 μ m ermöglicht. Die Einheit besteht aus zwei Hauptkomponenten: Der Wafer Alignment (WA) Tabelle und der Reticle Alignment (RA) Tabelle. Beide Tische sind mit X- und Y-Übersetzungsstufen im Mikrometer-Stil sowie zwei feinen Z-Stufen ausgestattet. Die feinen Z-Stufen ermöglichen eine unabhängige Einstellung der X- und Y-Achsen. Um Photomaske und Wafer auszurichten, verwendet die Mask Aligner Maschine ein Vision Tool. Dieses Gerät verwendet entweder eine LED oder einen Laserprojektor und ein Bildaufnahmegerät, um Referenzpunkte auf der Maske und dem Wafer zu lokalisieren und zu messen. Darüber hinaus kann das Modell für die optische Maskenprüfung, 3D-Profilometrie oder Offline-automatische Zentrierung verwendet werden. Die im Lieferumfang enthaltene Software soll eine Vielzahl von Aufgaben im Zusammenhang mit der Maskenausrichtung, Messung und Inspektion unterstützen sowie eine Benutzeroberfläche bereitstellen, die einfach und einfach zu bedienen ist. Darüber hinaus bietet das Mask Aligner System eine hervorragende Genauigkeit und Auflösung. Es ist mit einer zweiachsigen Ausrichtungs-Mikrometer-Skala ausgestattet, die Verschiebungen unter 0,7 μ m registrieren kann. Diese Genauigkeit ist bei der Ausrichtung von Photomasken und Wafern mit mikrometergroßen Merkmalen unerlässlich. Schließlich bietet das Gerät eine integrierte Alarmmaschine, um den Bediener vor Fehlstellungen oder Unregelmäßigkeiten zu warnen. Insgesamt ist MICROTEC 505 Mask Aligner ein leistungsstarkes Werkzeug, das Präzision, Genauigkeit und Zuverlässigkeit im Maskenausrichtungsprozess bietet. Das integrierte Vision-Tool, die hohe Auflösung, die Alarmanlage und die benutzerfreundliche Software machen es zu einer idealen Wahl für Photolithographie-Anwendungen.