Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC M6000L #9012375 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC M6000L ist ein Produktionsmasken-Aligner, der speziell für fortschrittliche Halbleiterlithographieverfahren entwickelt wurde. Es zeichnet sich durch hohen Durchsatz, Vielseitigkeit und ausgezeichnete Prozesskontrolle aus. MICROTEC M6000L verwendet eine hochpräzise lineare Positionierstufe und eine automatisierte „Teach-and-Replay “/Ausrichtungsausrüstung, die eine genaue Ausrichtung zwischen Maske und Wafer ermöglicht. Das System ist mit einer benutzerfreundlichen, intuitiven grafischen Oberfläche mit einem starken Algorithmus zur Unterstützung von Produktentwicklung, Engineering und Produktionsanforderungen programmiert. KARL RUß M6000L bietet eine Auflösung von 1µm für die Positionierung und eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit von 6µm. Es unterstützt auch die Verwendung sowohl der Standard- als auch der fortschrittlichen Lithographie-Prozesse, einschließlich Deep UV, E-Beam und i-line. Darüber hinaus ist das Gerät für große Substrate bis zu 12 "in der Größe sowie Standard 4" und 5 "Wafer ausgelegt. M6000L Aligner verfügt über eine automatische Spannmaschine, die eine sichere und wiederholbare Verbindung zwischen dem Substrathalter und dem Werkzeug ermöglicht. Ein Vakuumanschluss und eine Vakuumfußabdruckisolierung sind ebenfalls enthalten, um während kritischer Belichtungsstufen einen ausreichenden Vakuumdruck für das Substrat bereitzustellen. KARL RUß/MICROTEC M6000L bietet mehrere erweiterte Funktionen, die reproduzierbare und wiederholbare Lithographieverfahren ermöglichen. Dazu gehören temperaturgesteuerte Umgebung, automatische Benetzbarkeitskontrolle an Maske und Substrat, Prozessüberwachung mit Kammerverbrauchsmaterialien und Fernüberwachung des Ausrichtungs- und Belichtungsprozesses des Wafers. Zum Asset gehört auch eine digitale Bildaufnahmekamera, die eine Brennweitenüberwachung ermöglicht, um eine hochauflösende Bildgebungsleistung im belichteten Muster zu gewährleisten. MICROTEC M6000L ist eine fortschrittliche, voll ausgestattete Lithographielösung, die die optimale Musterentwicklung fortschrittlicher Halbleitermaterialien gewährleistet. Das Modell bietet Anwendern eine umfassende Lithographieausrüstung, die einen hohen Durchsatz und genaue Prozesse ermöglicht. Es kann Anwendern helfen, Wiederholbarkeit, robuste Leistung und Kosteneffizienz zu erzielen und gleichzeitig hochwertige Geräte bereitzustellen.