Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #293585808 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 100E ist ein hochpräziser Maskenausrichter, der häufig in Photolithographieverfahren eingesetzt wird. Es wird verwendet, um dünne Beschichtungen aus Photolack genau auf die Oberfläche des gewünschten Bauteils oder Schaltkreises abzulegen. MICROTEC MA100E verwendet fortschrittliche Technologie, um sicherzustellen, dass Licht genau fokussiert und genau gesteuert wird, so dass es möglich ist, ein Schaltungsmuster genau auf den Resist zu übertragen. Dies ermöglicht eine möglichst hohe Auflösung in einem photolithographischen Verfahren und eignet sich somit für ein breites Anwendungsspektrum. KARL RUß MA 100 E verfügt über ein Feld-Modifikationsmerkmal, das die Modifikation der Photolackdicke und der abgeschiedenen Mustergröße ermöglicht. Dies geschieht mit zwei getrennten Steuergeräten, die für unterschiedliche Anwendungen eingestellt werden können. Zusätzlich verwendet dieses Gerät eine erweiterte Vektor-Scan-Ausrichtungsfunktion, die sicherstellt, dass der abgeschiedene Photolack genau über dem Zielsubstrat ausgerichtet ist. KARL RUß/MICROTEC MA 100 E verfügt zudem über ein fortschrittliches Bildgebungssystem, mit dem Bilder des aufgebrachten Fotolacks exakt aufgezeichnet werden. Die Abbildungseinheit verwendet eine Zweikameramaschine, mit der der Resist vor noch nicht allzu langer Zeit nach der Belichtung mit der Lichtquelle untersucht wird. Dadurch können die Ergebnisse genau überprüft werden. KARL RUß/MICROTEC MA100E ist in der Lage, das Substrat mit einer Genauigkeit von 10 Nanometern zu positionieren, was es zu einer idealen Wahl für jedes Präzisions-Photolithographie-Verfahren macht. Es ist auch in der Lage, mit hohen Frequenzen zu arbeiten, so dass es für Hochgeschwindigkeitsproduktionen geeignet ist. Insgesamt ist MICROTEC MA 100 E ein zuverlässiger, hochgenauer und qualitativ hochwertiger Maskenausrichter, mit dem Muster präzise und präzise auf ein Substrat übertragen werden. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und Technologien ist es in der Lage, Anwendern die höchste Qualität der Ergebnisse in jedem Photolithographie-Prozess zu bieten. Es ist eine ideale Wahl für alle Anwendungen, die hochgenaue photolithographische Masken erfordern.