Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #293670040 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 100E ist ein hochpräziser Maskenausrichter zur präzisen Ausrichtung von Photomasken oder Retikeln für Halbleiterlithographieanwendungen. MICROTEC MA100E ist in der Lage, sowohl Einzel- als auch Mehrfachbelichtungsdienste für Gerätegeometrien von 15 nm oder mehr bereitzustellen, und kann Bildfunktionen bis zu 100 nm aufweisen. Das Gerät besteht aus einem optischen Tisch, einem fein kalibrierten Bewegungssystem, einer Lichtquelle, einem Detektor zur Ausrichtgenauigkeit, einer Waferstufe und einem Waferhalter. Die Lichtquelle kann auf UV-, sichtbares oder IR-Licht eingestellt werden und sorgt für eine gleichmäßige, hochauflösende Beleuchtung des Wafers. Die Bewegungseinheit wurde entwickelt, um Aberrationen und Fehler im Zusammenhang mit der räumlichen Übersetzung für die Ausrichtungsgenauigkeit zu minimieren. Die Maschine kann mit hoher Präzision an ausgewählte Ausrichtpunkte gelangen und der Wafer kann schnell und sicher be- und entladen werden. KARL RUß MA 100 E verfügt zudem über eine automatische Kollimatorkamera zur präzisen Ausrichtung einzelner Fotomasken sowie eine CCD-Kamera zur Inspektion, Betrachtung und Messung des gemusterten Wafers. Weiterhin ist ein temperaturgesteuertes Mikroskopobjektiv enthalten, das zur Untersuchung individueller Merkmalseigenschaften auf dem Wafer verwendet werden kann. Durch die Verwendung eines fortschrittlichen Echtzeit-Fehlerkorrekturwerkzeugs verfügt MICROTEC MA 100 E über eine hohe Registrierungsgenauigkeit während des gesamten Druckprozesses. Das Asset verfügt außerdem über eine 8-Bit-Gray-Code-Plattform, die Autofokus, Startup-Kalibrierung, Echtzeit-Bildservice und automatische Belichtung für höchste Genauigkeit kombiniert. Für eine genauere Einstellung gibt es ein Feinverstellrad, um das genaue Muster für die Prägung einzustellen. MICROTEC MA 100E ist vielseitig einsetzbar und kann für eine Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden, einschließlich der Erstellung von Musterschichten für die Waferfertigung. Das Modell ist in der Lage, eine hochauflösende Linienbreite von 10nm ohne Verzerrungen oder Pixelation zu bedrucken. Darüber hinaus können MA- 100E für Prototyping und prototypenbasierte Fertigung eingesetzt werden. Es verfügt über eine Tiefenvorschreib- und bildgebende Ausrüstung für die Oberflächenprüfung des gemusterten Wafers, und das Design ermöglicht die Installation einer Vielzahl von bildgebenden, detektierenden und Mustermessgeräten. Insgesamt bietet KARL RUß MA 100E mask aligner ein zuverlässiges und präzises Lithographieverfahren für verschiedenste Produktionsanwendungen. Es bietet eine hohe Registriergenauigkeit in Kombination mit schnellem Be- und Entladen des Wafers und Einrichtungen zur Sichtprüfung. KARL RUß/MICROTEC MA100E ist ein einfaches, intuitives System, das eine präzise Musterausrichtung und genaue Abbildung von Merkmalen bis zu 10 nm Linienbreiten ohne Pixelierung oder Verzerrungen ermöglicht.