Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9197137 zu verkaufen

ID: 9197137
Weinlese: 2010
Mask aligner Includes: Electrical cabinet (2) Parts boxes (4) Glass doors (5) Metal covers Mask holder Chuck Funnel Objective: 5x Front lens (6) Lens Light tower Light adapter TSA Microscope 2010 vintage.
KARL RUß/MICROTEC MA 100E ist ein vollautomatischer Maskenausrichter, der für hochauflösende photolithographische Mikrofabrikationsverfahren eingesetzt wird. Es eignet sich gut für die Herstellung von integrierten Schaltungen, Sensoren, Aktoren und anderen mikroelektronischen Komponenten. MICROTEC MA100E umfasst eine integrierte PC-basierte Steuereinheit und ein optisches/mechanisches Ausrichtsystem mit automatischer Substrat- und Retikelbelastung. Das Retikel ist auf einer 5-Achsen-Stufe montiert und verwendet ein digitales Mikrometer zur Präzisionsausrichtung. Die Reticle-Bühne verfügt über manuellen Modus, volle Rotation und Einziehmöglichkeiten. Das Substrat wird auf einem Vakuumfutter gehalten und mittels einer manuellen oder automatisierten Substrathandhabungseinheit beladen. Das Vakuumfutter ist motorisch angetrieben und kann die Substratfehlausrichtung minimieren. Die Maschine ist auch mit einem opitcal Betrachtungs- und Bilderfassungswerkzeug ausgestattet, das integrierte Beleuchtung und ein optisches Mikroskop aufweist. Mit diesem Optikaufbau kann eine Auflösung von 1 µm erreicht werden. KARL RUß MA 100 E verfügt zudem über eine 6 oder 12 Zoll vakuumbetätigte Substratstufe mit 5µm XY Bewegungsfähigkeit. Der Maskenausrichter ist in der Lage, ein Lichtmuster aus dem Retikel auf das mit Photolack beschichtete Substrat mit einer Lichtdurchlässigkeit von 99,7% zu projizieren. Die hochauflösende Projektionsoptik sorgt für einen diffusen Lichtmuster über das Substrat, der die Bildung komplexer Strukturen mit extrem hoher lateraler Auflösung, genauer Registrierung und hohem Kontrast ermöglicht. MICROTEC MA 100 E kann in einem breiten Spektrum von Atmosphären- und Vakuumanteilen betrieben werden, was hochkonforme Beschichtungen und eine verbesserte Schichtgleichförmigkeit ermöglicht. Der Masken-Aligner hat eine breite Palette von Ausrichtungsgenauigkeit, die von 380 nm bis 75 µm reicht, je nach den verwendeten Materialien. MA 100 E ist dank intuitiver Benutzeroberfläche und präzisem Design einfach zu bedienen und zu warten. Es lässt sich leicht in eine Vielzahl von Produktionsprozessen integrieren und ist damit ein ideales Werkzeug für die Mikrophotolithographie.
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