Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9375086 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 100E ist ein manueller Maskenausrichter für photolithographische Prozesse in der Halbleiterindustrie. Diese Vorrichtung ermöglicht eine maximale Genauigkeit beim Aufsetzen einer Maske auf eine Halbleiterscheibe während des Photolithographievorgangs. Herzstück von MICROTEC MA100E ist eine vierachsige Schrittmotorstufe. Diese Motorstufe bietet eine präzise Bewegung in der X-, Y- und Z-Achse sowie in der Drehung der Theta (θ) -Achse. Dadurch wird eine maximale Genauigkeit beim Positionieren der Maske auf den Wafer gewährleistet. Dies ist wesentlich für photolithographische Prozesse, bei denen eine präzise Platzierung der Maske kritisch ist. KARL RUß MA 100 E ist auch in der Lage, die Maske präzise auf die Oberfläche des Wafers auszurichten. Mit einem Satz optischer und mechanischer Ausrichtungsmechanismen kann dieses Gerät die Maske mit einer Auflösung von besser als 0,0005 Zoll genau über dem Wafer positionieren. Dies ermöglicht eine effiziente und zuverlässige Photolithographie-Verarbeitung. KARL RUß/MICROTEC MA 100 E beinhaltet auch ein Bedienfeld, mit dem der Benutzer Parameter wie Temperatur, Belichtungszeit und Fokus einstellen und konfigurieren kann. Diese Parameter können feinjustiert werden, um die besten Ergebnisse für ein bestimmtes Photolithographieverfahren zu erzielen. Darüber hinaus ist das Gerät mit einem Vakuumsystem ausgestattet, das dazu beiträgt, dass die Maske beim Bewegen über den Wafer fest gehalten wird. KARL RUß MA 100E ist ein zuverlässiger und präziser manueller Maskenausrichter für photolithographische Prozesse. Seine vierachsige Schrittmotorstufe sorgt für eine präzise Bewegung und seine optischen und mechanischen Ausrichtungsmechanismen sorgen dafür, dass die Maske mit einer Auflösung von besser als 0,0005 Zoll korrekt positioniert wird. Darüber hinaus ermöglicht die interne Steuerung eine präzise Abstimmung der Photolithographie-Parameter und das integrierte Vakuumsystem hält die Maske fest, während sie über den Wafer bewegt wird. Zusammen bieten diese Funktionen eine zuverlässige und genaue Photolithographie-Verarbeitung.