Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9389776 zu verkaufen

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ID: 9389776
Weinlese: 2010
Mask aligner Damaged parts: UPS Mercury lamp controller Chuck Control cabinet 2010 vintage.
KARL RUß/MICROTEC MA 100E mask aligner ist eine leistungsstarke und hochpräzise Ausrüstung zum Ausrichten von Formen für die Herstellung von nanoelektronischen Geräten. Dieses Gerät bietet eine effektive Lösung für die Photolithographie von Mikro- und Nanostrukturgeräten, da es eine hochpräzise Ausrichtung der im Prozess verwendeten Ausrichtmasken ermöglicht. MICROTEC MA100E mask aligner verwendet in der Photolithographie ein extrem genaues optisches mechanisches System, um Formen und Wafer exakt auszurichten. Das Gerät verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, die es ermöglichen, die Masken auf die genaueste Weise effektiv auszurichten und selbst die komplexesten Strukturen mit hochgenauen Ergebnissen zu versehen. KARL RUß MA 100 E Maske Aligner hat eine breite Palette von Funktionen, die es ideal für verschiedene Photolithographie-Projekte machen. Die Maskenträgermaschine ist mit drei verschiedenen Sätzen kinematischer Führungssysteme für höhere Genauigkeit und Stabilität bei der Ausrichtung ausgelegt. Es verfügt über einen einstellbaren optischen Encoder, der es ermöglicht, die kleinsten Unterschiede in den sub-millimetrischen Genauigkeiten zu messen. Darüber hinaus verfügt dieses Werkzeug auch über eine sehr zuverlässige kinematische Halterung mit niedrigem Profil, die eine äußerst genaue Ausrichtung der Masken- und Waferkombination gewährleistet. Das Modell bietet zahlreiche weitere Funktionen, die seine Genauigkeit und Effizienz weiter verbessern. Mit seiner einstellbaren Temperaturregelung kann MA 100 E die ideale Temperatur für die Entwicklung der Photolithographie beibehalten. Es hat auch die einzigartige Fähigkeit der Auto-Fokussierung, automatische Anpassung der Optik gemäß der Größe des Projekts, so dass eine schnellere und genauere Ausrichtung. MICROTEC MA 100 E ist eine sehr vielseitige Ausrüstung, mit der eine Vielzahl von Projekten, unabhängig von der Komplexität, abgewickelt werden können. Es bietet sowohl manuelle als auch vollautomatische Betriebsarten, die größtmögliche Flexibilität ermöglichen. Die zahlreichen Genauigkeitsmerkmale und Sicherheitsprotokolle sorgen dafür, dass der Prozess mit höchster Präzision und Qualität abgeschlossen wird. Darüber hinaus bietet MA 100E mask aligner Spitzentechnologie, um sicherzustellen, dass Photolithographie-Projekte mit höchster Präzision und Genauigkeit abgeschlossen werden.
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