Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #293600832 zu verkaufen
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ID: 293600832
Wafergröße: 6''
Mask aligner, 6"
Substrates, 6" x 6"
M206 / M236 Split field microscopes
Objectives: 5x, 10x, 20x
Eyepiece Magnification: 10x
Micrometer spindles
UV Ranges with optimized diffraction reducing systems
Splitfield topside microscope with turret
C-Mount for IR camera adaption
Alignment stage with loaded IR chuck
IR Illuminators and tube stage for target positioning
IR Tubes
Spare parts
Tool kit
X-Drive
IR Tool:
Chuck
Maskholder
Spacers for maskstage clamp
Stage:
X, Y Theta
Z Alignment
Wedge error compensation
Microscope manipulator with adapter
Movement synchronized with alignment
Lamp house LH 1000: 350 W / 1000 W lamp
With optical tube and mirror house / Eclipse mirror
CRT Display
Serial dialog operator interface
Substrate size: 1" x 1" - 4" x 4", Pieces
Mask size: 7" x 7"
Exposure system:
Vacuum contact and proximity
Gas separation: 0-90 um
Gas adjustment resolution: 1 µm
Contact pressure: 0.02 - 1.0 N/cm²
Exposure optics:
Wavelength / Range / Source
UV400 / 350 mm - 450 mm / 1000 W Hg
UV300 / 208 mm - 350 nm / 1000 W Hg
Alignment:
Top Side Alignment (TSA)
Accuracy: TSA down to 0.5 µm
Back side alignment
Accuracy: BSA down to 1.5 µm
Alignment stage:
Alignment range X: ±5 mm
Alignment range Y: ±5 mm
Alignment range θ: ±3°
Mechanical resolution X, Yθ: 0.05 μm
UV400 With high peak intensity at 365 nm and 405 nm
Exposure area: 6"
CIC500 for 350 W HBO
Maximum intensity at 365 nm: 19 ±4% mW/cm²
Maximum intensity at 405 nm: 30 ±4% mW/cm²
Power supply: 110 V / 220V, 50/60 Hz, 1500 W.
KARL RUß/MICROTEC MA-150 ist ein Masken-Aligner, der entwickelt wurde, um den photolithographischen Prozess durchzuführen, der für die Konstruktion von mikroelektronischen Bauelementen wie Halbleiterchips erforderlich ist. Diese Maschine ist ein wichtiges Werkzeug für die Herstellung von Schaltungen in industriellen Prozessen und Konsumgütern. MICROTEC MA150 verwendet ein Verfahren namens „step-and-repeat“ Lithographie, um mikroelektronische Teile herzustellen. Dieses Gerät arbeitet, indem es zuerst eine Glasphotomaske einer Lichtquelle aussetzt, wodurch ein Muster der Photolithographie auf das zu behandelnde Substrat projiziert wird. Diese Fotomaske kann mit einer Vielzahl verschiedener Muster gefüllt werden, die die Form, Größe und Platzierung der Muster, die in das Substrat geätzt werden, vorschreiben. Anschließend wird das Substrat auf die Bühne von KARL RUß MA 150; eine Reihe von Schrittmotoren passt genau die Position des Substrats an oder „Schritt und Wiederholung“, wodurch die gewünschten Muster ausgerichtet werden. Von unten erwärmt und dem Licht aus der obenliegenden Optik ausgesetzt, wird das Substrat dann mit Ionen beschossen, um die Muster auf das Substrat zu ätzen. Dieser Vorgang wird für so viele „Masken“ wiederholt, wie für das gewünschte Produkt notwendig sind. KARL RUß/MICROTEC MA 150 ist eine hochautomatisierte Einheit, die sehr wenig Bedienereingang erfordert. Sein Softwarepaket bietet umfassende Prozessrezepte, die das Risiko einer falschen Ausrichtung und anderer Fehler minimieren. Darüber hinaus verfügt KARL RUß MA-150 über eine ausgeklügelte Diagnostik, Retikel und Photomasken, die den Einsatz der Maschine mit einer breiten Palette von Substraten ermöglichen. MA 150 ist eine hocheffiziente, kostengünstige Lösung für photolithographische Prozesse. Sie ist benutzerfreundlich und ermöglicht es Herstellern, mikroelektronische Komponenten schnell und präzise herzustellen. MA150 ist eine wertvolle Bereicherung für jede Produktionslinie, die eine erhöhte Effizienz und verbesserte Produktqualität bietet.
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