Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #9248592 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA-150 ist ein hochpräziser Maskenausrichter zur photolithographischen Strukturierung von Materialien auf Substraten in der Mikroelektronikindustrie. Der Aufbau der Anlage basiert auf dem Prinzip der optischen Ausrichtung einer lichtempfindlichen (Photoresist) Schablone auf ein Substrat. Innerhalb des MICROTEC MA150 Systems werden zwei unabhängige Stufen eingesetzt. Die Ausrichtstufen funktionieren so, dass der Bediener das Substrat und die Fotomaske exakt an sich ausrichten kann. Dies wird durch ein Paar Heidenhains erreicht, die in der Lage sind, das Substrat genau zu bewegen und x, y und z Achsen zu photomasken. Die Konstruktion des Geräts nutzt Sensoren und extrem präzise manuelle Einstellungen für eine endgültige Ausrichtung und Positionierung der Substrate. Dadurch kann der Bediener bei der Ausrichtung der Fotomaske auf das Substrat eine Submikron-Genauigkeit erreichen. Die Maschine enthält auch einen integrierten Wafer-Ausrichtlaser, der bei der Ausrichtung hilft. Dieser Laser ermöglicht es dem Anwender, das Substrat zur präzisen Ausrichtung schnell zu finden und zu lokalisieren. Darüber hinaus kann das Werkzeug aufgrund seiner hohen Genauigkeit und maximalen Ausrichtungswiederholbarkeit für Klein- und Großserien eingesetzt werden. Um eine hohe Photomasken-Wiederholbarkeit zu gewährleisten, realisiert KARL RUß MA 150 einen industriellen Laser. Dieser Laser kann auf der Photomaske wiederholbare Linienverschiebungen von weniger als einem Mikron erzeugen. Dies ermöglicht eine hohe Präzision auch auf großen Substratscheiben. MICROTEC MA-150 Modell kann auch eine breite Palette von Photolackmaterialien akzeptieren und bietet die Flexibilität, eine Vielzahl von Wafern mit verschiedenen Größen und Dicken zu verarbeiten. Das Gerät verfügt zudem über eine integrierte Kühloption, die es dem Maskenausrichter ermöglicht, eine gleichmäßige Belichtung über das gesamte Substrat zu erreichen. Schließlich ist MA 150 System mit fortschrittlicher Software ausgestattet, die die volle Kontrolle des Prozesses ermöglicht. Diese Software kann verwendet werden, um die Belichtungsdosis und die Belichtungszeit zu steuern, wodurch komplexe Prozesse wie das mehrschichtige Mustern viel einfacher werden. Darüber hinaus bietet die Einheit die Möglichkeit, die Dicke der Resistschicht für hochpräzise Prozesse zu steuern.