Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA-151 #9095086 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA-151 ist ein computergesteuerter Maskenausrichter zur Strukturierung von Dünnschicht- und Waferbearbeitung, Lithographie und Inspektion sowie Photolithographie in der mikroelektronischen Industrie. Das Gerät besteht aus einer XYZ-beweglichen Bühne, einem hochpräzisen Positioniersystem und einer einzigartigen Projektionsoptik, die die genaue Ausrichtung und Belichtung von Mustern und Merkmalen auf einem Wafer oder Substrat ermöglicht. MICROTEC MA-151 ist in der Lage, Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 4,0 Zoll zu strukturieren. Die XYZ-Bewegungsstufe von KARL RUß MA-151 ermöglicht eine hochpräzise Positionierung von Substrat und Maske zueinander. Seine hochpräzise Positioniermaschine sorgt für eine perfekte Ausrichtung der Maske auf das Substrat mit einer Reihe von Laserausrichtungssensoren, die eine Fehlausrichtung von nur 0,2 Mikrometern erkennen können. Dadurch kann eine präzise, hochauflösende Strukturierung erreicht werden. Das Projektionsoptik-Tool von MA-151 besteht aus einem hochmodernen branchenführenden Carl Zeiss-Objektiv, einer Hochleistungslampe Xenon und einem Lichtregler. Diese Kombination ermöglicht die Bildung von Nanoskala-Merkmalen auf dem Substrat mit sehr hoher Auflösung. Der Lichtregler von KARL RUß/MICROTEC MA-151 verfügt über eine breite Palette einstellbarer Einstellungen einschließlich Belichtungsdauer und Intensität, wodurch der Anwender den Musterprozess für bestimmte Anwendungen feinjustieren kann. MICROTEC MA-151 verwendet einen patentierten Trockenbewegungsmechanismus, der die Effizienz und Wiederholbarkeit der Ergebnisse erhöht. Dies reduziert die Rüstzeit und den Zeitaufwand zwischen jedem Zyklus. Das Asset ist zudem mit einer umfassenden grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die rechtzeitiges Feedback zum aktuellen Status des Modells sowie zum Fortschritt verschiedener Operationen liefert. Abschließend ist KARL RUß MA-151 ein hochpräziser Maskenausrichter zur Strukturierung von Wafern oder Substraten mit nanoskaligen Merkmalen. Seine Präzision XYZ bewegliche Bühne, hochpräzise Positionierung Ausrüstung und fortschrittliche Projektionsoptik sorgen für genaue Ausrichtung und Belichtung der mikroelektronischen Eigenschaften, so dass MA-151 die ideale Wahl für Lithographie und Dünnschicht und Wafer Verarbeitung, Inspektion und Photolithographie Operationen.