Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 200 Compact #9289493 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 200 Compact ist ein automatisierter, vollautomatischer Masken-Aligner, der für die komfortable und präzise Planarisierung von Photomasken für die Mikrolithographie entwickelt wurde. Es ist ein Masken-Aligner mit geschlossenem Regelkreis, der mit patentierter Strahllenkungstechnologie Masken schnell und präzise ausrichtet. Der Aligner verfügt über einen einzigartigen, starren vierspaltigen Rahmen, der eine breite Palette von Ausrichtungsstrategien ermöglicht. Mit seinem schwingungsarmen Design und der linearen Gleitkonstruktion bietet MICROTEC MA 200 Compact eine hervorragende Langzeitstabilität und zuverlässige Ergebnisse. KARL RUß MA-200 COMPACT verfügt über zwei Scanmechanismen. Das erste ist ein patentierter balkensteuernder Selbstanordnungsmechanismus, der sowohl aktive als auch passive Elemente verwendet, um die Maske innerhalb von einigen Nanometern der angegebenen Position automatisch auszurichten. Der zweite ist ein fester Strahlablenkmechanismus mit einem Sichtfeld von bis zu 2000 μ m, der eine breite Palette von Musterabdeckung ermöglicht. Der Aligner kann mit einer Vielzahl von Spannfuttern und Waferstadien ausgestattet werden und verfügt über ein geordnetes Waferaustauschsystem, das schnelle Maskenwechsel ermöglicht. KARL RUß/MICROTEC MA-200 COMPACT ist mit einem Laserdiodenlaser zur automatischen Ausrichtung und einem kontinuierlichen Deckglas-Abtastsystem zur Kantenerkennung und Validierung ausgestattet. KARL RUß MA 200 Compact wurde entwickelt, um eine präzise seitliche Ausrichtgenauigkeit für automatische Bearbeitung von Wafern mit einem Durchmesser von 200 mm und einer Dicke von 4,5 mm zu gewährleisten. Darüber hinaus ist MICROTEC MA-200 COMPACT mit zwei integrierten, präzisen Abtastobjektiven ausgestattet, um die Probe zur korrekten Ausrichtung auf die Maske abzubilden. Diese Objektive sind vollständig achromatisch und bieten maximale Flexibilität bei der Bildgebung. Dieser Aligner verfügt auch über erweiterte Funktionen wie Scanbeschleunigungsmesser, um Vibrationen zu reduzieren, und einen In-Ebene-Korrekturmechanismus, um verbleibende Ausrichtungsreste aufgrund einer Waferbiegung zu eliminieren. MA 200 Compact bietet einfache Bedienung und minimales Bedientraining und bietet mehrere Ebenen des Benutzerzugriffs für eine ununterbrochene Produktion. Das benutzerfreundliche Design mit grafischer Benutzeroberfläche, einfacher Kalibrierung und mehreren Test-/Validierungsschritten ermöglichen es dem Bediener, mit Maskenausrichter schnell zum Laufen zu kommen. MA-200 COMPACT bietet maximale Wiederholbarkeit und Vielseitigkeit für die Maskenbearbeitung und ist ideal für hochpräzise Photolithographieanwendungen.