Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9238413 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 200 ist ein vielseitiger und präzise gestalteter Maskenausrichter. Es bietet eine genaue und wiederholbare Ausrichtung von Wafern und Masken mit hoher Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. Dieses Gerät ermöglicht eine präzise Ausrichtung von Substraten mit bis zu 200 mm Durchmesser auf Masken mit bis zu 880 mm Durchmesser. MICROTEC MA200 ist für die Herstellung von Lithographie konzipiert. Es verfügt über eine einfache, benutzerfreundliche Oberfläche, mit der Benutzer schnell die gewünschten Ausrichtungs- und Belichtungsparameter programmieren können. Die Software, die die Maschine steuert, ist robust und leicht verständlich. Es bietet auch erweiterte Funktionen wie die Möglichkeit, Programme zu speichern, die automatische Einstellung der Beleuchtungsausrüstung und einen Bedienungsassistenten für die Feinabstimmung. KARL RUß MA-200 setzt eine Reihe fortschrittlicher Präzisionsoptiken und Elektroniken ein, um eine präzise Ausrichtung und Belichtung von Halbleiterscheiben und anderen Substraten zu gewährleisten. Die Optik verwendet Kupfer-Dampf-Laserstrahl und Schrittmotor-Linsensystem, um eine präzise Ausrichtung zu gewährleisten. Eine motorisierte Wafer-zu-Masken-Ausrichteinheit mit einer Genauigkeit von bis zu 30 nm sorgt für eine wiederholbare und genaue Ausrichtung der Substrate auf die Masken. Die Optik ist auch zur seitlichen, höhen- und seitlichen Neigungskorrektur sowie zur berührungslosen Wafer-zu-Masken-Profilanpassung in der Lage. MA-200 verfügt auch über eine automatisierte Maskenhandhabungsmaschine für den Wafer-zu-Maske-Austausch und die Handhabung großer Linsen. Der Wafer-zu-Masken-Austausch wird mit einem Aufzugswerkzeug durchgeführt und ein Vakuumgut hält und löst die Wafer und Masken präzise. Die fortschrittliche Optik lebt in einer Umgebung der Temperatur- und Feuchtigkeitskontrolle, die einen maximalen Schutz des Lithographieprozesses gewährleistet. KARL RUß MA200 bietet eine effiziente und kostengünstige Lösung für die Herstellung von Maskenpraktiken, die eine präzise Ausrichtung und Belichtung von Wafersubstraten mit einer Geschwindigkeit von bis zu 16 Wafern pro Stunde gewährleistet. Das macht das Modell ideal für Serienanwendungen.