Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9395433 zu verkaufen

ID: 9395433
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 2004
Mask aligner, 6"-8" 2004 vintage.
KARL RUß/MICROTEC MA 200 ist ein Vollfeldprojektionsausrichter zur qualitativen Ausrichtung und Photolithographie von Substraten im Submikronbereich. Die Ausrüstung ist perfekt für die Arbeit mit einer Vielzahl von Materialien, Substraten, Dosen und Eigenschaften Größen, so dass es ideal für eine Vielzahl von Forschung, Entwicklung und Produktion Anwendungen. MICROTEC MA200 verfügt über ein einzigartiges Nicht-Scanner-Ausrichtungssystem, das Breitfeldbildoptiken und Feldgleichmäßigkeiten verwendet, um jedes Substrat schnell und präzise genau auszurichten. Dies ermöglicht die präzise Erfassung von Substraten für die Photomaskierungs- und Ätzprozesse. Die High-End-Ausrichteinheit in KARL RUß MA-200 nutzt digitale Bildgebung und präzise lineare und rotatorische Steuerung der Maske, um eine präzise Ausrichtung der Substrate auf die Fotomaske zu gewährleisten. Diese Maschine wurde optimiert, um ein optimales Overlay-Matching zu ermöglichen, was bei der Ausrichtung kleiner und komplexer Bauformen wie Mikroelektronik und MEMS wichtig ist. Die Merkmalsgröße von KARL RUß MA 200 ist minimal und ermöglicht eine präzise Ausrichtung bei Winkeln bis zu 0,2 mrad. Diese Merkmalsgröße findet sich in vielen handelsüblichen Ausrichtern, ist jedoch MA200 besonders vorteilhaft in der Fähigkeit, sehr kleine Merkmale genau und präzise auszurichten. KARL RUß MA200 ist automatisiert und kommt mit Multi-Verschleißteilen und austauschbarer Optik, so dass Anwender ihre Betriebskosten senken und gleichzeitig die höchsten Qualitätsstandards einhalten können. Das automatisierte Transportwafer-Handhabungswerkzeug ermöglicht eine schnelle Beladung von Substraten und Masken, wodurch der Zeitaufwand für die Photolithographie reduziert wird. Die automatisierte Instandhaltungsanlage sorgt für eine optimale Leistung aller Komponenten und reduziert den Bedarf an manueller Wartung. MA-200 bietet erstklassige Funktionen zur präzisen und genauen Ausrichtung kritischer Merkmale. Die Nicht-Scanner-Technologie, die weiträumige Bildgebungsoptik sowie sensible digitale Bildgebungs- und Steuerungssysteme ermöglichen es Anwendern, hochwertige Masken mit gleichbleibend hervorragenden Ergebnissen zu erstellen. Die Kombination aus fortschrittlicher Technologie und zuverlässiger Leistung macht es zu einer großen Wahl für Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionsanwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor