Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 4/6 #9258606 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 4/6 ist ein Allzweckmasken-Aligner, der ein hochgenaues Verfahren zur Strukturierung von Mikroskalen und großflächigen Merkmalen auf einem Substrat bietet. Diese fortschrittliche Technologie unterstützt Anwender bei der Erstellung komplizierter Muster, die für jede Anwendung von entscheidender Bedeutung sind, von Leiterplatten bis zu Metalloxid-Halbleiterherstellung (MOS) und darüber hinaus. MICROTEC MA 4/6 verfügt über eine Reihe von Ausrichtungsgenauigkeiten von ± 2µm bis ± 20µm, wodurch die höchsten Ausrichtungsstandards erreicht werden können, wenn komplizierte und fortschrittliche Muster erstellt werden. Das Design umfasst auch eine 12-Achsen-Positioniereinrichtung, die eine optimale Positionierung und Manipulation des Musterfeldes ermöglicht - ein entscheidender Faktor für nanolithographische Anwendungen. KARL RUß MA 4/6 ist mit langlebigen „Air Bubble Free“ -Blasensystemen ausgestattet, die eine totale Stabilität der Optik und des Wafertisches bieten und das höchste Maß an wiederholbaren Ergebnissen für den jahrelangen Betrieb bieten. Die Linsenbildgebung wird durch eine langlebige, geringe Leistungsaufnahme mit hoher NA-Optik ermöglicht. Dazu gehört ein variables Sichtfeld, das von Durchmessern von 20 µm bis 30 µm eingestellt werden kann. Zusätzlich bietet KARL RUß/MICROTEC MA 4/6 On-Unit-Support, benutzerfreundliche Frontplattenmenüs und PC-Integration, um eine einfache Bedienung zu gewährleisten. Die Maschine ist auch mit Frontvorausrichtungsmodul, Bildanalysefähigkeiten und einem Partikelüberwachungswerkzeug ausgestattet. Die freiliegende Waferoberfläche wird auf Maßhaltigkeit gemessen, wodurch eine genaue Ausrichtung auf das Muster gewährleistet wird. Es gibt auch eine Auswahl an aktiven Gasspülsystemen, wie Sep-Purge oder TurboPurge, die Gasansammlungen in der Anlage verhindern, die schwierige Betriebsbedingungen gewährleisten. Abschließend ist MICROTEC MA 4/6 ein hochpräzises Maskenausrichtungsmodell, das für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist, die eine genaue Bildgebung erfordern. Seine Reichweite von Genauigkeit, 12-Achsen-Positionierausrüstung, lange Lebensdauer Blasensysteme und ausgezeichnete Optik machen es zu einer idealen Lösung für Nanolithographie-Anwendungen. Das System bietet auch Funktionen wie Pre-Alignment, Bildanalyse, On-Unit-Support, PC-Integration und Partikelüberwachung, die Benutzerfreundlichkeit bieten und hochgenaue Ergebnisse erzielen.