Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 55 #123195 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 55 ist eine Photolithographieanlage zur präzisen Ausrichtung von Photomasken auf eine Vielzahl von Substraten. Sie eignet sich besonders zur Herstellung von mikroelektronischen, mikromechanischen und optoelektronischen Bauelementen. MICROTEC MA 55 ist ein manueller Maskenausrichter mit einem 8x8 Zoll Präzisionsoptischen Tisch und 10x Mikroskop. Es verfügt über ein integriertes zweidimensionales (2D) Ausrichtungssystem zur Ausrichtung der Masken und Substrate mit einem Minimum an Bedienereingriff. Das Gerät ist so konzipiert, dass es sowohl eine planare als auch eine kippbare Ausrichtungsmöglichkeit für die Masken- und Wafer-Positionierung bietet. Es ist in der Lage, ± 0,4 Mikron Leistung zu halten, wenn es auf eine ebene Oberfläche paart. KARL RUß MA-55 bietet eine vielseitige, hochpräzise Plattform für die Photolithographie. Es gibt zwei separate Steuerungssysteme für die Maskierung und für die Waferbearbeitung. Jeder hat seine eigene Windows-basierte Software zur Dateneingabe und -manipulation. Die Maskensteuerungsmaschine ermöglicht es Benutzern, die Maskendaten wie Positionszahlen, Maskengrößen und -typen sowie Overlay und Falschausrichtung einzugeben. Das Wafer-Steuerwerkzeug ermöglicht es Benutzern, die Waferdaten wie Positionsfiguren, Waferform und Wafertypen einzugeben. MICROTEC MA-55 bietet hochauflösende Optik, darunter ein 10x Mikroskop und ein 5x Mikroskop zur Vergrößerung der Ausrichtung und Betrachtung während des Photolithographie-Prozesses. Es enthält auch eine Low-Power-5-Megapixel-digitale CCD-Kamera zur Fotoaufnahme und In-situ-Maskeninspektion. Darüber hinaus verfügt KARL RUß/MICROTEC MA-55 über eine eingebaute Luftlagerschiene für präzise Maskenausrichtung und Wafermanipulation. Das Luftlager-Gleitschienenmodell gewährleistet eine stabilisierte Ausrichtung von Maske zu Wafer, die eine Positionsausrichtungsgenauigkeit von unter Mikron ermöglicht. MA 55 unterstützt eine Vielzahl von Photomasken bis zu einer Größe von 8 x 8 Zoll und eine Vielzahl von Waferformen. Seine Belichtungslampe erzeugt ein präzises, gleichmäßiges Beleuchtungsfeld mit Intensitäten bis zu 10.000 Luxus.Alle Ausrichtungs- und Belichtungskomponenten sind mit einem integrierten Gasfiltrationsmodul vakuumdicht, um Verschmutzungen zu vermeiden. MA-55 ist eine zuverlässige und genaue Photolithographie-Ausrüstung, die in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt wird. Es liefert hohe Ausrichtungsgenauigkeit durch seine fortschrittliche Optik, CCD-Kamera und Luftlagerschienensystem. Die eingebaute Gasfiltrationsanlage sorgt für eine saubere und schadstofffreie Belichtung für konsistente Ergebnisse. Mit seinen vielseitigen Fähigkeiten eignet sich dieser Masken-Aligner für den Einsatz in Prototyping, Forschung und Produktion von elektronischen, mikroelektronischen, optoelektronischen und mikromechanischen Geräten.