Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #119483 zu verkaufen
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ID: 119483
Wafergröße: 4"
Weinlese: 1986
Mask aligner, 4"
Model #: 260MS022
350W exposure unit
X, Y, Omega stage and scope manipulator
Cassette system with pre-aligned station
Hg, exposure optics, and vacuum contact tooling intact
Does not include:
Lamp power supply
Camera
Monitor
Utilities required:
Vacuum
Compressed air
Nitrogen
Power (1.1 kW)
Power requirement:110 V, 1500 VA, 60 Hz
1986 vintage.
KARL RUß/MICROTEC MA 56 ist ein automatisierter Maskenausrichter für photolithographische Prozesse. Es verwendet eine ultrapräzise, laserbasierte Projektionsausrichtung, um die Genauigkeit der Ausrichtung von Masken auf die Substrate auf Wafern während der Lithographie-Prozesse zu erhöhen. MICROTEC MA56 ist für die Herstellung von hochdichten Halbleiterbauelementen, einschließlich derjenigen für Logik- und Speicheranwendungen, ausgelegt und ist in der Lage, die Genauigkeit des Submikron-Niveaus für Geräteausrichtungen bereitzustellen. KARL RUß MA-56 ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, die es zu einer ausgezeichneten Wahl für eine Vielzahl von Photomasken-Ausrichtungsanwendungen machen und es Anwendern ermöglichen, ihren Prozess anzupassen. Es ist mit einem großen 8-Zoll-Maskenfeld ausgestattet, das genügend Platz bietet, um eine breite Palette von Größen und Geometrien unterzubringen, einschließlich Klein- und Großformatmasken. Darüber hinaus verfügt KARL RUß MA56 über zwei unabhängige Projektionsausrichter, die beide eine Spot-On-Ausrichtung mit Sub-Mikron-Genauigkeit ermöglichen. KARL RUß/MICROTEC MA-56 verfügt über einen modularen Aufbau, der es Anwendern ermöglicht, das System an ihre spezifischen Produktionsanforderungen anzupassen. Es kommt mit einer Vielzahl von Objektivoptionen, jede bietet seine eigenen Vorteile für eine bestimmte Anwendung, wie Auflösung und Tiefe des Fokus. Die Einheit hat auch eine Vielzahl weiterer optionaler Komponenten, wie einen optischen Strahlkombinierer zur Mehrschichtausrichtung, einen Scanner zur Musterkombination und eine Vielzahl von Projektionsobjektiven zur Ausrichtung unter Verwendung verschiedener Wellenlängenlaser. MICROTEC MA-56 ist in der Lage, bis zu 6 Masken zu speichern, so dass es einfach ist, schnell zwischen verschiedenen Photomasken-Sets zu wechseln. KARL RUß/MICROTEC MA56 verwendet eine Wafer-Handhabungsmaschine, mit der präzise Teilmengen von Wafern exakt am Halter positioniert werden können. Das Werkzeug ist außerdem mit einer selbstreflektierenden Ausrichtung ausgestattet, die die Reflektivität der Oberfläche und etwaige Scannerfehler schnell kompensiert. Zusätzlich kann KARL RUß MA 56 mit erweiterten Optionen wie automatisiertem Spaltsensor und Vakuumlocheinstellung für verbesserte Leistung und Genauigkeit aufgerüstet werden. Neben hervorragenden Maskenausrichtungsmöglichkeiten bietet MICROTEC MA 56 präzise Bedingungen für eine breite Palette von Substraten. Es nutzt eine präzise Temperatur- und Feuchtigkeitsüberwachung, so dass die Geräte unter optimalen Bedingungen hergestellt werden. MA 56 ist auch mit einem fortschrittlichen Sicherheitsmodell ausgestattet, das Unfälle im Zusammenhang mit dem Betrieb der Ausrüstung verhindert, wenn die Ausrüstung in einer chemisch sensiblen Umgebung läuft. Insgesamt ist MA-56 eine ausgezeichnete Wahl für eine präzise Maskenausrichtung von hochdichten Halbleiterbauelementen. Es ist mit einem fortschrittlichen Projektionsausrichtungssystem ausgestattet, das Präzision und Kontrolle von Sub-Mikrometern bereitstellen kann. Darüber hinaus bietet MA56 eine breite Palette von Funktionen und Komponenten, die es ermöglichen, auf eine Vielzahl von Anforderungen angepasst werden, und bietet auch genaue Bedingungen für eine Reihe von Substraten.
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