Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9080239 zu verkaufen

KARL SUSS / MICROTEC MA 56
ID: 9080239
Wafergröße: 5"
Mask aligner, 5" Converted to manual operation Split field optics.
KARL RUß/MICROTEC MA 56 ist ein Maskenausrichter für den Einsatz in photolithographischen Anwendungen wie der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist eine hochpräzise Ausrüstung, die eine schnelle und genaue Übertragung des Musters von einem negativen Filmmaster auf einen Wafer ermöglicht. Es ist in der Lage, bei 200 mm und 157 mm Wafergrößen zu arbeiten, mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 0,5 Mikron. Das System besteht aus zwei Hauptkomponenten, dem Großrechner und der Kopfeinheit. Das Mainframe ist die Basiseinheit, die Maskenstufe, Beleuchtungsquelle und optische Komponenten enthält. Die Kopfmaschine ist auf dem Großrechner montiert und besteht aus einer XY-Stufe und einem Z-Achsen-Antrieb zur Steuerung der Position des Substrats während der Belichtung. Der Kopf beherbergt auch die Projektionsoptik, die das Bild des Masters auf das Substrat fokussiert. Die Maskenstufe verwendet als Haltemechanismus zur Ausrichtung der Negativfolie auf die Maskenplatte ein Vakuumfutter. Es ist mit einem Mikroskop ausgestattet, um eine präzise Ausrichtung der Folie zu gewährleisten. Die Beleuchtungsquelle enthält sowohl Quecksilber als auch Halogenlampen, um unterschiedliche Lichtwellenlängen bereitzustellen, die dem Maskenmaterial entsprechen. Die XY-Stufe ermöglicht die Stufen- und Wiederholungsausrichtung der Folie über dem Substrat. Es hat eine Genauigkeit bis zu einem Mikron, so dass der Benutzer eine präzise Ausrichtung der Folie auf das Substrat durchführen kann. Die Projektionsoptik ist ein hochzähliges Aperturlinsenwerkzeug, das die Beleuchtung von den Lampen auf das Substrat fokussiert. Es ist extrem präzise, mit einer Auflösung von bis zu 0,5 Mikron. Der Z-Achsen-Antrieb ermöglicht eine präzise Steuerung der Substratposition während der Belichtung. MICROTEC MA56 ist eine ideale Lösung für photolithographische Anwendungen, die eine schnelle und genaue Übertragung von Mustern von einem negativen Filmmaster auf einen Wafer ermöglicht. Seine hochpräzisen Komponenten und Eigenschaften ermöglichen es Herstellern, Halbleiterbauelemente schnell und präzise herzustellen.
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