Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9242466 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 56 Maske Aligner ist ein beliebtes Werkzeug im Bereich Lithographie. Dieser Masken-Aligner ist in der Lage, Masken und Substrate genau auszurichten, um komplexe photomikrografische Muster für Anwendungen wie Photolithographie, E-Strahl und Nanoaufdrucken zu erstellen. MICROTEC MA56 verwendet ein modernes optisches und elektronisches Steuerungssystem, um die Ausrichtung von Maske und Substrat aufrechtzuerhalten. Dadurch kann eine präzise wiederholbare Ausrichtung aufeinanderfolgender Masken mit hoher Genauigkeit erreicht werden. Dies ermöglicht einen höheren Durchsatz und geringere Produktionskosten. KARL RUß MA-56 hat eine Arbeitsfläche von bis zu 546 x 420 mm mit Ausrichtgenauigkeit von 25 μ m für Stufen und Wiederholungen. MA-56 verwendet zwei Stromschienen, die von einem Schrittmotor angetrieben werden, und Vakuumgriffe, um die Werkzeuge zu bewegen. Dadurch kann das Werkzeug genau positioniert werden, wenn die Ausrichtung erfolgen soll. Der Motor dient zur präzisen Positionierung der Werkzeugposition relativ zu Substrat und Maske. Das System verfügt außerdem über einen Degaskopf, der bei Bedarf die Entgasung von Kammerkomponenten ermöglicht. MA56 hat mehrere Optionen, die es ermöglichen, für eine Vielzahl von photomikrographischen Anwendungen angepasst werden. Dazu gehören Linsen mit variablem Fokus, Hochaperturlinsen und wasserlösliche oder suspendierte Belichtungsköpfe. Es enthält auch verschiedene Monitore und Displays, die eine schnelle Anpassung von Parametern wie Fokuseinstellungen, Belichtungszeiten und Kammerumgebung ermöglichen. Außerdem verfügt MA 56 über eine intuitive, benutzerfreundliche Software, die einfach zu bedienen ist. Diese Software ist C-kompatibel und bietet eine Vielzahl von Steuerungsfunktionen wie Betriebsparameter, Einrichtung für die Ausrichtung, Schichteinstellungen und Überwachung des gesamten Prozesses. Insgesamt ist MICROTEC MA 56 Mask Aligner ein effizientes und kostengünstiges Werkzeug, das den Anforderungen moderner photomikrografischer Lithographieanwendungen gerecht wird. Das fortschrittliche optische und elektronische Steuerungssystem sowie die intuitive benutzerfreundliche Software bieten Genauigkeit und Zuverlässigkeit, die es zum perfekten Werkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen machen.