Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9302582 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 56 ist ein Maskenausrichter, der mittels optischer Lithographie mikroskopische Strukturen in Photoresist und anderen Materialien herstellt. Der Aligner besteht aus zwei Hauptkomponenten: einem Maskenhalter und einem Tritttisch. Der Maskenhalter ist eine mechanische Plattform, die einen höhenverstellbaren Maskenhalter enthält und zur Bewegung der Maske dient, um sie mit dem Substrat auszurichten. Der Schritttisch ist eine schrittmotorisch angetriebene Plattform, die eine Mikroausrichtung von Proben ermöglicht. MICROTEC MA56 wurde entwickelt, um eine hochauflösende Strukturierung und präzise Ausrichtung von Submikron-Strukturen von 200nm bis 100nm zu ermöglichen und verfügt über eine numerische Apertur (NA) von 0,8/1. Die Maschine ist in der Lage, Muster mit Merkmalsgrößen so klein wie 0.5um zu produzieren. Es ist auch in der Lage, Belichtungsintervall von 365 nm bis 365 nm mit einer Schrittweite von 0,5 - 20 Mikrometer und Belichtungszeit von 0,1 - 200 ms durchzuführen. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer automatisierten Fokussteuerung ausgestattet, die es dem Anwender ermöglicht, den gewünschten Fokus voreinzustellen und einen perfekt abgestimmten Fokus der Belichtungsstufe zu gewährleisten. KARL RUß MA-56 wird durch ein umfangreiches Softwarepaket angetrieben, das den Ausrichtungsprozess erleichtert. Es bietet eine breite Palette von Ausrichtungshilfen wie Auto-Exposure (AE), Auto-Focus (AF), Auto-Nivellierung (AL), Focus Recovery (FR) und Muster-Optimierung (PO) Werkzeuge. Darüber hinaus ist die Ausrüstung auf Vielseitigkeit ausgelegt, da ihr modularer Aufbau austauschbare Masken und eine Vielzahl von Substrathaltesystemen ermöglicht. Alle diese Funktionen arbeiten, um präzisere und effizientere Lithographie-Prozesse zu schaffen, die zu einer höheren Qualität der Geräteherstellung führen. MICROTEC MA 56 ist ein zuverlässiges und hochgenaues optomechanisches Werkzeug für Photolithographie-Anwendungen, das verwendet wird, um komplizierte Muster und Submikronstrukturen mit der Kraft der optischen Lithographie zu erzeugen. Es bietet ein umfangreiches Spektrum an Funktionen für eine präzise und effiziente Lithographie, die eine schnellere und genauere Musterausrichtung für die Geräteherstellung ermöglicht.