Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 6 / BA 6 #9226441 zu verkaufen

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ID: 9226441
Weinlese: 2018
Mask aligner Manual alignment stage: Automatic wedge compensation system: Contact / Without contact (Mask and wafer) Alignment gap program: 1 - 1000 Micron 1 Micron resolution Movement range mask aligner mode: X ±10.0 mm, Y ±5.0 mm, Theta ±S" Movement range bond aligner mode: X ±3.0 mm, Y ±3-0 mm, Theta ±3° Machine base with mechanical, pneumatic and electrical equipment Adapter system: Mask holders: Up to 7" x 7" maximum TSA Microscope stage: X, Y Manipulator (Motorized) Manual rotation Wafers / Substrates: Manual loading and unloading Microprocessor control with LCD display Lithography applications Wafers: 2" Up to 150 mm Diameter Substrates: 2" x 2" Up to 6" x 6" Bond application Wafers: 3" Up to 150 mm diameter Operator manual on CD BSA Microscopes with working distance 33 mm Alignment stage: X, Y Theta WEC Head for BSA microscope objective separation in X direction 15 mm to 100 mm Motorized Z axis Bottom side alignment system: Separation in X: 15 mm - 100 mm Travel in Y: - 20 mm to + 50 mm Motorized focus: 6 mm Enhanced Image Storage System (EISS): PC With image and fine focus control M 306 / 8, DVM 6/8 and BSA TFT Flat screen, 17" Integrated trackball S-VGA Resolution: 1280 x 1024 SUSS DVM6 Microscope: (2) CCD Cameras Objective separation: 47 to 140 mm Single objective UMPL FLI Working distance: 20 mm Exposure unit: Wafer / Substrate: 150 mm Exposure lamps: Up to 500 W 2018 vintage.
KARL RUß/MICROTEC MA 6/BA 6 ist ein manueller Maskenausrichter zur hochpräzisen nanolithographischen Strukturierung von Photomasken und Substraten. Diese Maschine wird in der Massenproduktion, Forschung und Entwicklung von Geräten mit mikroskopischen Merkmalen eingesetzt. Es ist ein automatisiertes Werkzeug zum Ausrichten von Masken oder Substraten mit 10nm Genauigkeit und Schrittwiederholbarkeit. MICROTEC MA6/BA6 eignet sich aufgrund seiner extremen Genauigkeit und Wiederholbarkeit ideal zur Strukturierung von Photomasken und Substraten. Es ist ein fortschrittliches optisches Lithographiewerkzeug, das zwei separate Kammern, nämlich die Maskenkammer und die Substratkammer, zur Erhöhung der Genauigkeit und Wiederholbarkeit aufweist. Die Maskenkammer verfügt über eine 180-Grad-Ausstelltür zum Be- und Entladen von bis zu zwei Masken in beliebiger Ausrichtungskonfiguration. Es verfügt über zwei aufrüstbare Maskentabellen mit 5 Positionen für eine einfache Maskenausrichtung. Die Maskenkammer bietet auch die Möglichkeit der manuellen oder automatisierten Translation und Rotation über eine motorisierte XYZ-Bühne. Die Substratkammer verfügt über eine 180-Grad-Ausstelltür zum Be- und Entladen von bis zu vier Substraten in beliebiger Ausrichtungskonfiguration. Es verfügt auch über einen 5-Positionen aufrüstbaren Substrattisch für einfache Substratausrichtung. Die Substratkammer bietet die gleiche manuelle oder automatisierte Translation und Rotation über eine motorisierte XYZ-Stufe wie die Maskenkammer. KARL RUß MA6/ BA6 sorgt mit einem fortschrittlichen Beleuchtungssystem für eine präzise Ausrichtung und Belichtung von Maske zu Substrat. Es kombiniert sowohl LED- als auch Mini-Halogenlampen-Beleuchtungsquellen für eine optimale Intensitätsregelung und Gleichmäßigkeit. Das System bietet auch eine Auswahl an verschiedenen Ausrichtungsmodi wie vollautomatisiert, halbautomatisch und manuell für verschiedene Anwendungen. Es verfügt auch über eine softwaregesteuerte Bewegungserkennungstechnik, um eine überlegene Positionsgenauigkeit mit beiden verfügbaren Strahlquellen zu gewährleisten. MA 6/BA 6 ist eine ausgezeichnete Wahl für fortschrittliche Lithographieanwendungen, da es unübertroffene Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Geschwindigkeit bietet. Es ist ein zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug zur Skalierung von F&E und Massenproduktion in verschiedenen Bereichen, einschließlich Mikroelektronik, MEMS, Optoelektronik und Magnetspeicher.
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