Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 6 / BA 6 #9378159 zu verkaufen

KARL SUSS / MICROTEC MA 6 / BA 6
ID: 9378159
Wafergröße: 4"
Mask aligner, 4".
KARL RUß/MICROTEC MA 6/BA 6 ist ein hochgenauer Masken-Aligner für die Wafer-Lithographie. Es besteht aus einer schrittweisen Belichtungsanlage mit einem auf Mikroskopobjektiven basierenden Ausrichtsystem. Die schrittweise Belichtung verwendet ultraviolettes Licht und liefert ein kontrolliertes Muster von Bildern auf Waferoberflächen. Ziel der Ausrichteinheit ist es, eine wiederholbare und genaue Ausrichtung von Maskenmustern für die Herstellung von Wafern zu gewährleisten. MICROTEC MA6/BA6 nutzt eine Vielzahl von Technologien, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Es ist mit einer automatisierten Ausrichtungsmaschine mit optischen Mikroskopobjektiven, einem Ebenheitsmonitor zur Gewährleistung der Wafer-Gleichmäßigkeit, einem Mehrkanal-Mustergenerator zur Herstellung von Mustern auf Waferoberflächen und einem Kantenerkennungswerkzeug zur Submikron-Genauigkeit ausgestattet. Zusätzlich wurden mehrere Softwarepakete speziell für KARL RUß MA6/ BA6 entwickelt, um einen effizienten Anwenderbetrieb zu gewährleisten und die Übertragung von Mustern auf Wafer zu ermöglichen. MICROTEC MA 6/BA 6 ist auf hohe Leistungsanforderungen für eine Reihe von Fertigungsaufgaben ausgelegt. Dieses Modell kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich der Herstellung von integrierten Schaltungen, Halbleiterbauelementen und Komponenten für Flachbildschirme und Automobildisplays. Es ist in der Lage, ultrapräzise Ausrichtung, bietet hohe Präzision von weniger als 0,5 Mikrometer, mit einer maximalen Arbeitswiederholbarkeit von weniger als 10 Mikrometer. Darüber hinaus unterstützt die benutzerfreundliche Softwarefunktion eine Reihe von Mustermethoden und die automatisierte Ausrichtung ermöglicht die Produktion hochwertiger Substrate mit minimalem Abfall. MICROTEC MA 6 BA 6 ist ein ideales lithographisches Werkzeug für eine Produktionsumgebung, die Genauigkeit und Reproduzierbarkeit erfordert. Es kombiniert hochwertige Ausrichtungs- und Bildgebungspräzision mit effizientem Design und benutzerfreundlicher Software für eine effektive Wafer-Fertigung. Es ist so konzipiert, dass es in einem weiten Temperaturbereich funktioniert und für wiederholbare Prozesse in einer Vielzahl von industriellen Anwendungen geeignet ist. Darüber hinaus garantiert seine hohe Genauigkeit eine präzise Ausrichtung der Schichten im Produktionsprozess, wodurch hochwertige Produkte hergestellt werden können.
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