Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 6 #9173487 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 6 ist ein Maskenausrichter, auch als Stepper bekannt. Es wird hauptsächlich in photolithographischen Verfahren verwendet, wo es verwendet wird, um Muster von strahlungsempfindlichem Material genau auf ein Substrat abzuscheiden. MICROTEC MA6 Stepper besteht aus einer Basis, einem Basismodul, einem Vakuumfutter und einem Musterkopf. Die Basis von KARL RUß MA-6 beherbergt alle Komponenten innerhalb der Maschine. Es hält die x-, y- und z-Achse und die Plattenkarten sowie den Schaltschrank, die Sichtausrüstung und das Interferometer für die Verwaltung des Systems. Das Basismodul enthält einen Hubtisch, mit dem Substrate zwischen dem Vakuumfutter und den über den Außenboden gelegten Waferringen transportiert werden. Das Vakuumfutter besteht aus mehreren Säulen, auf denen Spannplatten befestigt werden können. Diese enthalten mechanische Stifte und Sensoren zur genauen Befestigung von Substraten zur Bearbeitung oder Ausrichtung. MA-6 enthält auch einen Musterkopf, der im wesentlichen ein Roboterarm mit einer Laserstrahlungsquelle ist. Mit den Laserstrahlen werden Muster auf die Substrate aufgebracht, die über ein spezielles Softwareprogramm auf das Material geschrieben werden. KARL RUß/MICROTEC MA6 verfügt über eine hochpräzise feinfokussierende Stufenzugabe, die sicherstellt, dass das Muster entsprechend den Konstruktionsvorgaben genau auf das Substrat gedruckt wird. Es verfügt auch über mehrere erweiterte Funktionen, einschließlich Mikron-Ebene Ausrichtung zwischen dem Musterkopf und dem Substrat, eine Vision-Einheit mit einem eingebauten Display-Monitor und bildgebende Fähigkeiten, eine Drehplatte, die das Substrat gedreht werden kann und eine State-of-the-Art-Beleuchtungsmaschine. Mit MA6 können mehrere Substrate in einem Lauf bearbeitet und ein Array von Substraten gleichzeitig durch die Verwendung von mehreren Musterköpfen belichtet werden. MICROTEC MA 6 wird typischerweise in photolithographischen Verfahren eingesetzt, wo es verwendet wird, um Muster aus strahlungsempfindlichem Material genau auf ein Substrat abzuscheiden. Es eignet sich für eine breite Palette von Anwendungen wie Halbleitergeräteherstellung, Medizintechnik, flexible Elektronik und mikroelektronische Produktfertigung. Seine bahnbrechenden technologischen Eigenschaften und Benutzerfreundlichkeit machen es zu einer zuverlässigen und wirtschaftlichen Wahl für Photolithographie Anlagen.