Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen 2 #9352165 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2 ist ein halbautomatischer Maskenausrichter, der im photolithographischen Verfahren eingesetzt wird. Dieser Masken-Aligner wird zur Verarbeitung von Photomasken und Wafersubstraten verwendet, um Geräte mit hoher Genauigkeit und Präzision zu erstellen. Das Gen 2 verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, die eine höhere Geschwindigkeit, Genauigkeit und Zuverlässigkeit beim Ätzen und Herstellen von Halbleiterbauelementen ermöglichen. MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2 nutzt die neueste optische Technologie und automatisierte Präzisionsausrichtung für genaue Kleinstrukturierung. Der Maskenausrichter ist individuell konfiguriert, um die Bedürfnisse des Benutzers mit Funktionen wie einem einstellbaren Maskenplatzierungsfeld, einem Schrittmotorantriebssystem für Maskentransport und -ausrichtung und einem hochpräzisen Maskenpositionierungssystem zu erfüllen. Darüber hinaus sorgt die fortschrittliche Temperaturregelungstechnologie für konsistente Abscheide- und Musterergebnisse. Um die Genauigkeit zu gewährleisten, ist KARL RUß MA 8/BA 8 GEN2 mit einer Genauigkeit von bis zu +/- 20 nm Submikron-Auflösung möglich. Benutzer können den Aligner so konfigurieren, dass er eine Vielzahl von Substraten verarbeitet, einschließlich solcher mit einer Fläche von bis zu 8 Zoll Durchmesser. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine flexible Architektur, mit der der Benutzer sein Setup an eine Vielzahl von Anwendungen und Prozessanforderungen anpassen kann. KARL RUß/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN2 eignet sich zur Herstellung von Halbleiterbauelementen wie integrierten Schaltungen, Transistoren und Speicherchips. Darüber hinaus ermöglicht das Softwarepaket Benutzern eine umfassende Datenprotokollierung und -analyse, wodurch Benutzer die Leistung ihrer Maschine mit Leichtigkeit und Vertrauen überwachen können. KARL RUß MA 8/BA 8 Gen 2 ist ein zuverlässiger, effizienter Maskenausrichter, der für einen erhöhten Durchsatz und eine höhere Genauigkeit der kleinen Photolithographie ausgelegt ist. Mit seiner fortschrittlichen Optik und präzisen Ausrichtungsmöglichkeiten sorgt das Gen 2 für hochwertige Ergebnisse. Mit seinen anpassbaren Optionen ist es ein perfektes industrielles Werkzeug für jede Halbleiterherstellungsanwendung.