Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293800513 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3 ist ein vollautomatischer Maskenausrichter zur schnellen und präzisen Belichtung von Wafern in der Produktion. Das Gerät besteht aus einem Durchsatzspinner, präzisen Mustererfassungsgeräten und einem Hochleistungs-Polyimid-Resistsystem. Der Durchsatzspinner auf MICROTEC MA8BA8-GEN3 ist mit einer Durchsatzrate von bis zu 8 Wafern pro Stunde schnell verarbeitbar. Der Spinner verwendet eine hochgenaue Geschwindigkeitsregelung, um eine konsistente und zuverlässige Belichtung zu gewährleisten. Darüber hinaus ermöglicht der Spinner mit seiner patentierten 3D-Autofokus-Funktion eine präzise Kontrolle über die Fokustiefe und umfasst auch eine fiducial-Tracking-Maschine, die signifikante Positionsfehler auf dem Substrat verfolgt und korrigiert. Das Musterregistrierungstool von KARL RUß MA 8/BA 8 GEN 3 ist für die schnelle und vollständige Registrierung feiner Muster auf einem Wafer ausgelegt. Das Gerät ist mit einem Edge Detection Asset und einem Image Stitch-Back Capture Modell ausgestattet, um eine hochpräzise Ausrichtungsleistung zu erzielen. Darüber hinaus ermöglicht eine Suite hochauflösender Zoomoptiken die genaue Prüfung von Mustern, um eine Qualitätsausrichtung zu gewährleisten. Die Polyimid-Resistausrüstung von MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3 ist für die Belichtung von Wafern mit einer Vielzahl von Resist und Substraten ausgelegt. Das Gerät ist mit einer Vielzahl von variablen Belichtungsparametern ausgestattet, einschließlich Intensität, Belichtungsbereich und Auflösung, was eine große Flexibilität in der Anwendung ermöglicht. Es ist auch mit einem fortschrittlichen Kontaminationskontrollsystem ausgestattet, das die restliche atmosphärische Partikelverunreinigung genau kontrolliert. MA8BA8-GEN3 ist ein kostengünstiger und zuverlässiger Maskenausrichter, der für Produktionsläufe hochpräziser Musterausrichtung für eine Vielzahl von Substraten und Resist konzipiert ist. Es ist in der Lage, mit seinem Durchsatz-Spinner schnell zu verarbeiten, und seine präzise Musterregistrierung und Polyimid-Resist-Systeme sorgen für die Qualitätsausrichtung empfindlicher Muster. Schließlich enthält die Einheit auch eine fortschrittliche Verschmutzungs-Steuereinheit für eine verbesserte Prozessgleichförmigkeit.