Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MA 8 #293618546 zu verkaufen

KARL RUß/MICROTEC MA 8 ist ein Maskenausrichter für den Einsatz in Photolithographielaboren. Die Ausrüstung bietet unübertroffene Präzision und überlegene Verarbeitungsfunktionen für die anspruchsvollsten Aufgaben. Es ist ein hochmodernes, computergesteuertes, optisches Ausrichtungswerkzeug, mit dem Kontakt- und Bildmasken mit Mikro- und Nanoskala-Auflösung erzeugt werden. MICROTEC MA8 bietet eine Vielzahl von Funktionen, die es zu einem idealen Maskenausrichter für die Photolithographie machen. Es hat automatisierte, Echtzeit-Ausrichtung, Mikron-genaue Schrittmotor-Navigation, schnelles Wafer Be-/Entladen und einen breiten Arbeitsbereich. Darüber hinaus ist das System mit einer hohen Wiederholrate, mehreren optischen Schwenkpunkten und einem einstellbaren UV-Optikgehäuse ausgestattet, was eine feinste Ausrichtungsstabilität und Genauigkeit ermöglicht. Das Gerät ist benutzerfreundlich und bei Bedarf leicht einstellbar. KARL RUß MA-8 ist in der Lage, verschiedene Substratmaterialien wie Glas, Silizium, Quarz und Saphir mit einer Reihe von Substraten von wenigen Millimetern bis zu zwei Zoll zu verarbeiten. Diese Maschine ist in der Lage, lasergeätzte und schattenverdampfte Masken mit professionellen Qualitätsergebnissen zu produzieren. Darüber hinaus ermöglicht die Autofokus-Technologie eine präzise und genaue Maskenpositionierung mit perfekter Ausrichtung bei jeder Belichtung. KARL RUß MA 8 bietet mit seinem intuitiven Bedienmenü, automatischen Rollen, Förderbandwerkzeug und Belichtungstisch modernste axiale Bewegungssteuerung und Arbeitsplatzsicherheit. Das Belichtungsprogramm berechnet zusätzlich automatisch die optimale Belichtungszeit und bietet eine Verarbeitungskapazität von bis zu 80 Wafern oder 20 Maskenhaltern mit einem maximalen Translationsbereich von 5 x 5 Zoll. Abschließend ist KARL RUß/MICROTEC MA-8 ein vielseitiger und zuverlässiger Maskenausrichter, der eine Vielzahl von Funktionen für photolithographische Anwendungen bietet. Die benutzerfreundliche Oberfläche, die präzisen Ausrichtungsmöglichkeiten und die Vielfalt der Substratverarbeitung machen dieses Gut zu einer idealen Wahl für verschiedene Photolithographielabore und -prozesse.