Gebraucht KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #9211064 zu verkaufen

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ID: 9211064
Mask aligner Includes power supplies & accessories.
KARL RUß/MICROTEC MJB-3 Maskenausrichter ist eine präzise und zuverlässige Maskenausrichtung, die in vielen photolithographischen Anwendungen eingesetzt wird, einschließlich Photomaskeninspektion und Belichtung. Dieser Aligner wurde speziell für hochauflösende Belichtungsanwendungen entwickelt und eignet sich daher ideal für die Erstellung von ultrafeinen Funktionen auf Wafern. Es verfügt über eine Stufen- und Wiederholspindel, die die Fotomaske innerhalb ± 1-Mikron-Genauigkeit auf das Substrat ausrichten kann. Diese Positionierung erfolgt durch eine präzise motorgetriebene einachsige und mehrachsige Bewegung. Es verfügt auch über ein großes Sichtfeld, um größere Substrate und Wafer unterzubringen. MICROTEC MJB3 verfügt über eine verbesserte Optik, die es Anwendern ermöglicht, zwischen langem Arbeitsbereich, hochauflösender und langer Arbeitsreichweite mit Bilderzeugungsmodi niedriger Auflösung zu wechseln. Der Bilderzeugungsmodus mit niedriger Auflösung ermöglicht es Benutzern, die Ausrichtung zu bestätigen und die beste Belichtungsdosis auszuwählen, indem sie Schwankungen in der Photomaske aufgrund ihrer Transparenz und Reflexion erkennen. Der hochauflösende Bildverarbeitungsmodus ermöglicht eine präzise Inspektion und einen präzisen Standort, um über längere Lebenszeiten eine wiederholbare und zuverlässige Leistung zu erzielen. Zusätzlich verfügt KARL RUß MJB 3 über ein automatisiertes Wafer Handling System. Diese Einheit ermöglicht eine präzise Positionierung und temporäre Verankerung des Substrats während der Belichtung. Darüber hinaus können Anwender die Belichtungsdosis auf 100 Bildpunkte pro Megapixel und die Gleichmäßigkeit auf ± 1% einstellen. Darüber hinaus ist dieses moderne Werkzeug auch mit einem Lasermikrometer ausgestattet, das eine präzise berührungslose Abtastung der Fotomaske ermöglicht. Insgesamt ist KARL RUß MJB3 mask aligner eine effiziente und präzise Ressource, die zuverlässige Leistung für den Photolithographiebetrieb bietet. Die Kombination aus bildgebenden, positionierenden und automatisierten Wafer-Handling-Systemen ermöglicht eine Vielzahl von Anwendungen mit Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Dieses Modell reduziert auch Ausfallzeiten, erhöht die Produktivität und sendet kleinere Funktionen mit weniger Fehlern.
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