Gebraucht KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9238375 zu verkaufen

KASPER / EATON / QUINTEL 2001
ID: 9238375
Wafergröße: 3"
Mask aligner, 3" CTD.
KASPER/EATON/QUINTEL 2001 ist ein Multi-Gigahertz, hochpräzise Maske Aligner. Es wurde entwickelt, um hochpräzise, kleine Merkmalsmasken und Wafer für die Synthese von integrierten Schaltungen (IC) und anderen mikro-elektromechanischen (MEMS) Geräten herzustellen. Dieser hochmoderne Masken-Aligner verwendet eine patentierte direkte Bildgebungstechnik, um die Genauigkeit des Nanometers zu erreichen. EATON 2001 ist mit einer Fotomaske ausgestattet, die strukturierte Merkmale enthält, die in einem präzisen Raster platziert sind. Die Fotomaske wird auf eine Wafer-Positioniererplatte gelegt und einer hochintensiven ultravioletten (U.V-) Lichtstrahlung ausgesetzt. Das Licht wird dann mit einem motorisierten Aligner auf die Photomaskenplatten fokussiert. Die Ausrichtung ist sehr genau und präzise und erzeugt ein sehr gleichmäßiges, strukturiertes Gitter auf dem Wafer. KASPER 2001 bewegt den Wafer mit einem hochpräzisen Wafer-Schrittsystem von einem Punkt zum anderen auf der Wafer-Positioniererplatte. Dieser Ausrichtungsprozess ist wiederholbar und ermöglicht es dem Maskenausrichter, gleichbleibend hochwertige und hochauflösende Bilder zu erzeugen. Das Schrittsystem ist für den Betrieb mit einer maximalen Geschwindigkeit von einem hundertstel Millimeter pro Minute ausgelegt. Dies macht das System sehr genau und ermöglicht eine präzise Positionierung der Fotomaskenplatten. QUINTEL 2001 Maske Aligner hat auch automatische Fokussteuerung, um genaue und wiederholbare Bilderzeugung zu gewährleisten. Dieser Masken-Aligner bietet auch Maske-zu-Retikle-Funktionen. Auf diese Weise kann der Benutzer eine Photomaske und ein Retikel ausrichten, um hochauflösende Bilder mit Leichtigkeit zu erzeugen. 2001 ist ein vielseitiger und fortschrittlicher Maskenausrichter, der für viele Anwendungen geeignet ist. Diese leistungsstarke Maschine kann für die Maskenherstellung, Photolithographie, die Herstellung von Photomaskenplatten und Retikeln, die Schaffung von mikroelektronischen Testplatten und mehr verwendet werden. Es ist die perfekte Lösung für diejenigen, die hochpräzise und hochauflösende Maskenausrichtungssysteme benötigen.
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