Gebraucht M & R NANO TECHNOLOGY AG2000‐ 8NDSAV #293598392 zu verkaufen

M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV mask aligner ist eine Hochleistungsausrüstung, die verwendet wird, um Muster von feinen elektrischen und optischen Schaltungen auf Halbleitersubstrate oder Wafer genau zu übertragen. Dieser Masken-Aligner ist sowohl benutzerfreundlich als auch kostengünstig. Es verwendet fortschrittliche Algorithmen und Software, mit denen Benutzer Schaltungsmuster schnell und genau ausrichten und gleichzeitig den Ausrichtungsprozess und die Ergebnisse überwachen können. Das AG2000-8NDSAV bietet optimale Genauigkeit und ermöglicht auch Mustergrößen bis 12 mm mal 12 mm bei einer Ausrichtungswiederholbarkeit von 0,1 Mikrometern. Damit eignet es sich ideal für den Einsatz bei der Herstellung von Substraten zur Herstellung von integrierten Halbleiterschaltungen und Bauelementen. Diese Maschine verwendet eine x-y-Feinausrichtungsachse zur Ausrichtung der Muster. Das AG2000-8NDSAV verfügt über ein fortschrittliches „Ganfure“ -Projektionsobjektiv und ein hochauflösendes Kamerasystem. Diese Einheit enthält auch Lithographieoptiken und andere Komponenten, die es Anwendern ermöglichen, die Muster exakt auf das Substrat auszurichten. Sobald die Muster ausgerichtet sind, verwendet die Maschine Energiestrahlen, um die Muster auf das Substrat zu übertragen, um Muster zu erzeugen. Durch die Steuerung des Energiestrahl-Belichtungsbereichs und der Intensität stellt das Werkzeug sicher, dass die Muster genau übertragen werden. Dieser Masken-Aligner verfügt zudem über eine ausgeklügelte Substratheizung, die sicherstellt, dass die Wafertemperatur während des gesamten Lithographieprozesses konstant bleibt. Ein weiteres großartiges Merkmal des AG2000-8NDSAV ist sein „Auto Sampling Scan“. Dadurch wird sichergestellt, dass die Belichtung der Muster konsistent und gleichmäßig ist, wenn sie über das gesamte Substrat scannt. Das Modell verfügt auch über ein einfach zu bedienendes Datenaufzeichnungsverfahren, mit dem Benutzer Belichtungsdaten speichern und die Ergebnisse analysieren können. Darüber hinaus verfügt die AG2000-8NDSAV über ein leistungsstarkes Vakuumkrümmerdesign, das eine bessere Abgasbehandlung und Energieeffizienz ermöglicht. Darüber hinaus enthält diese Maschine eine erweiterte Programmiersprache, mit der Benutzer verschiedene Ausrichtungseinstellungen einfach programmieren und anpassen können. Abschließend ist M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV masks aligner eine leistungsfähige, kostengünstige und benutzerfreundliche Ausrüstung, die eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung komplexer Substrate und integrierter Schaltungen ist. Es bietet Benutzern eine präzise Musterausrichtung und eine Stufenverschlusssteuerung sowie eine automatische Abtastfunktion. Darüber hinaus machen das leistungsstarke Vakuumkrümmerdesign und das Datenaufzeichnungsverfahren diesen Maskenausrichter zu einer ausgezeichneten Wahl für Hersteller integrierter Schaltungen.