Gebraucht M & R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V #9191076 zu verkaufen

M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V ist ein Hochleistungsmasken-Aligner, der für die Herstellung großer Mengen von Halbleiterprodukten mit hoher Genauigkeit verwendet wird. Dieser Masken-Aligner ist speziell für branchenführende Prozessflexibilität und Produktionsskalierbarkeit konzipiert. Es bietet eine breite Palette von Ausrichtungs- und Belichtungsfunktionen, die in einer Vielzahl von Halbleitertechnologien verwendet werden können, einschließlich aktiver Schichtmuster, Verbindungsstrukturen und Metallisierung auf Geräteebene. Das NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V ist konstruktiv mit 3-stufigen Breitfeldlinsen und Wafer-Alignment-Systemen ausgestattet, die hohe Genauigkeit und Durchsatz garantieren. Diese Verstellsysteme ermöglichen die Feinabstimmung der Ausrichtung jedes Belichtungsauftrags für Produkte beliebiger Größe. Darüber hinaus verfügt der Masken-Aligner über eine große unterteilte Struktur für Wafer-Lagerung und -Transfer, die hilft, einen sicheren und effizienten Produktionsprozess zu gewährleisten. Die NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V wird auch mit einer schwenkbaren Maskeneinheit geliefert, die eine präzise Richtungsausrichtung und Belichtung der Maske gewährleistet. Dieses Gerät kann für eine präzise Positionierung programmiert werden und kann verwendet werden, um die Belichtungseinstellungen für verschiedene Arten von Wafern zu variieren. Darüber hinaus verfügt es auch über ein vorprogrammiertes Auflösungs- und Genauigkeitsprogramm, das sicherstellt, dass jede Belichtung korrekt durchgeführt wird. Die NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V ist auch mit einem automatisierten Maskenaufbereitungssystem ausgestattet, das eine effiziente Vakuum- und Gaszufuhr zu Passivierungsschichten zur Abscheidung von Resists ermöglicht. Dieses System ermöglicht auch eine Reihe von Aufgaben wie Photomaskenreinigung und Maskenübertragung für eine verbesserte Genauigkeit. Die NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V verfügt zudem über ein hochpräzises Luftspalt-Steuersystem, das die Belichtung kritischer Schichtmerkmale ermöglicht. Dies ermöglicht eine bessere Prozesskontrolle und trägt zur Sicherstellung der Qualität der großflächigen Waferfertigung bei. Insgesamt ist AG359-6N-D-S-S-V eine ideale Lösung für die Herstellung von High-End-Halbleiterprodukten. Von seinen Konstruktionsmerkmalen und Anpassungsfunktionen bis hin zu seinen automatisierten Maskenaufbereitungssystemen und Luftspaltsteuerungssystemen sorgt dieser Maskenausrichter für hochgenaue und wiederholbare Belichtungsergebnisse. Dadurch ist sie eine wertvolle Ressource für jede moderne Halbleiterverarbeitungsanlage.