Gebraucht MIDAS MDA-400M #293666284 zu verkaufen

Hersteller
MIDAS
Modell
MDA-400M
ID: 293666284
Weinlese: 2011
Mask aligner Spin process controller Substrate size: 2" and 4" Exposure optics: I, G, H-line UV Light source: 350 Watt Intensity controllable power supply Alignment: Top and back side alignment Top alignment stage: X, Y: ± 5mm and Z: 5mm Theta: ± 4° IR Lamp X-axis moving range: 2" 45~125 mm/ 6" X 55~129 mm Exposure time: 0~999 sec, min, hour Beam: Size: 4"x4" Power: ≥20 MW/cm² Beam uniformity: ≤ ± 3% Exposure mode: Soft and hard Vacuum and proximity contact Utilities requirement: Nitrogen: 0.4 MPA OFA: 0.6 MPA Vacuum: -600mm Hg No exhaust Lamp: Radiant intensity: 4,700 MW/SR Average luminance: 53,000 cd/cm² Base temperature: 230° C Radiant power: 50 W Power: 5.15 A, 350 W, 68 V 2011 vintage.
MIDAS MDA-400M ist ein effizienter und benutzerfreundlicher Maskenausrichter, der die Prozesse der Lithographie und Belichtung bestimmter Muster auf einer Oberfläche ermöglicht. Dieses Werkzeug wird in der Halbleiterherstellung für die Herstellung aller Arten von elektronischen Produkten verwendet. MIDAS MDA 400 M nutzt sowohl hochenergetische Photoresist als auch optische Musterung, um die Muster von einem Retikel, einem fotografisch erzeugten Gerät, schnell und genau auf das zu entwickelnde Gerät zu übertragen. Dieses Werkzeug kann in einer Vielzahl von Substratgrößen und -dicken verwendet werden und unterstützt auch eine Reihe von Belichtungslösungen, die helfen können, höchste Präzision und Wiederholbarkeit zu erhalten. MDA-400M verfügt über eine einzigartige Vier-Maskierungs-Ausrüstung, die es ermöglicht, größere Lithographieaufträge zu bearbeiten. Das Werkzeug ist mit vier Maskenladekammern ausgestattet, die jeweils bis zu fünf Wafer gleichzeitig aufnehmen können. Dadurch können die Wafer in gestaffelter Reihenfolge geladen werden, wodurch die Zeit für die Übertragung von Mustern auf das Substrat verringert wird. Dieser Masken-Aligner verfügt über ein CCD-Vision-Ausrichtungssystem, eine Kameraeinheit, die die Genauigkeit der Belichtung von Mustern gewährleistet, sowie eine Auswahl an Mikroskopen und Laserquellen, die das Bild genau und schnell fokussieren können. Die Laserquellen weisen außerdem eine dreidimensionale Fokusautomatik auf, die die Fokusebene bei Änderung der Substratoberfläche einstellt. Dies hilft, eine genaue Exposition und Wiederholbarkeit aufrechtzuerhalten. MDA 400 M verfügt außerdem über eine fortschrittliche Rezeptmanagement-Maschine, die den Herstellungsprozess optimiert und eine konsistente Strukturierung und Reproduktion ermöglicht. Mit seiner intuitiven Touchscreen-Grafik und der benutzerfreundlichen Bedienung kann diese Maschine Rezepte zwischen verschiedenen Maskenausrichtern austauschen. Insgesamt ist MIDAS MDA-400M ein idealer Maskenausrichter für die Halbleiterherstellung und andere Anwendungen der Präzisionslithographie. Es ist außergewöhnlich schnell und präzise, und seine schlanke Bedienung macht es zu einem effizienten und einfach zu bedienenden Werkzeug.
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