Gebraucht MIDAS MDA-80MS #9359652 zu verkaufen

MIDAS MDA-80MS ist ein hochmoderner Maskenausrichter für photolithographische Bildgebungsanwendungen. Es ist in der Lage, hochpräzise Masken mit Nanometer-Genauigkeit und hoher Wiederholrate zu produzieren. Das Gerät bietet eine breite Palette von Auflösungsfunktionen von 10 bis 100 Nanometer Auflösung. Es kann auch verschiedene Substratmaterialien wie Kunststofffolien, Silizium, Glas und Quarz aufnehmen. MDA-80MS verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Konstruktionsmerkmale, um seine Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Es verfügt über ein hoch optimiertes optisches Layout mit zwei Objektiven, wodurch größere Bereiche mit höherer Genauigkeit gescannt werden können. Das System verfügt auch über eine Reihe von automatischen Ausrichtungsfunktionen, um eine genaue Ausrichtung zwischen Maske und Substrat zu gewährleisten. Darüber hinaus können MIDAS- MDA-80MS angepasst werden, um eine Vielzahl von Substratoberflächen aufzunehmen, z. B. flach, verjüngt und gewellt. Das Gerät ist mit einer automatischen Be-/Entlademaschine integriert, die ein schnelles und genaues Maskenladen und Entladen beim Umschalten zwischen Masken ermöglicht. Es enthält auch eine Reihe von Bildaufnahmefunktionen, wie 2-D-Bildgebung und Maskenvisualisierung. Diese Funktionen ermöglichen es dem Anwender, den Prozess der Maskenherstellung genau zu überwachen und so eine präzise Rückmeldung über den Produktionsprozess zu ermöglichen. MDA-80MS verfügt außerdem über eine Reihe lithographischer Software und Hardware, um maximale Effizienz und Genauigkeit zu gewährleisten. Das Tool kann mit einer Vielzahl von Programmen und Instrumenten wie Computern, CAD-Programmen und Messtechnik/Inspektionssystemen integriert werden. Dies ermöglicht eine einfache und effiziente Integration von MIDAS Asset in einen Photolithographieprozess. MIDAS MDA-80MS ist ein zuverlässiger, benutzerfreundlicher und hochentwickelter Maskenausrichter, der in einer Vielzahl von Photolithographieanwendungen eingesetzt werden kann. Seine breite Palette von Fähigkeiten ermöglicht eine präzise und genaue Ausrichtung der Masken, um optimale Bildergebnisse zu erzielen. Seine erweiterten Funktionen und Integrationsmöglichkeiten machen es zu einer idealen Wahl für die Maskenausrichtung im Photolithographie-Prozess.