Gebraucht NANO SYSTEM DL-100 #9208181 zu verkaufen

NANO Equipment DL-100 ist ein Masken-Aligner zur Präzisionsmaskenausrichtung für nanoskalige Musterverfahren. Das System ist in der Lage, Wafer bis zu 4 Zoll Durchmesser zu verarbeiten, so dass es in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden kann. Das Gerät besteht aus drei Hauptkomponenten: der Aligner Unit, der Optical Stage und der Wafer Stage. Die Aligner Unit besteht aus einem Objektivarray und einer Steuerungsmaschine mit Echtzeitmessungen und benutzerfreundlicher Software. Die optische Bühne, die das Herzstück des Werkzeugs ist, besteht aus einem präzisen optischen Mikroskop und einer hochauflösenden Kamera. Die Wafer Stage wurde entwickelt, um eine präzise Positionierung zu gewährleisten und einen sicheren Halt des Wafers während des Ausrichtvorgangs zu gewährleisten. Das optische Mikroskop mit einer Vergrößerung von bis zu 400x wird verwendet, um das Bild zu vergrößern und das Muster genau auf den Wafer zu positionieren. Die Kamera liefert in-situ Belichtungen des gemusterten Wafers und erfasst die Ausrichtungsergebnisse. Die Software bietet dem Anwender eine breite Palette von Ausrichtungsfunktionen, einschließlich Mustererkennung und automatische Zentrierung, die die Ausrichtzeit erheblich reduzieren und so die Produktivität maximieren können. Das Control Asset ermöglicht auch eine breite Palette von G-Code-Sequenzen und Makro-Programmierung zur Automatisierung von Prozessen und Rationalisierung des Layouts von Mustern bis hin zu einer einzigen Codezeile. DL-100 bietet eine hohe Genauigkeit für die Musterausrichtung, so dass das Design mit einer minimalen Menge an Abfallmaterial genau präsentiert werden kann. Es ist in der Lage, komplexe und komplizierte Muster mit hoher Geschwindigkeit zu produzieren, und kann Anpassungen in Echtzeit dank seines fortschrittlichen Steuermodells vornehmen. Dies ist für Halbleiterindustrien aufgrund seiner hohen Durchsatzfähigkeit von Vorteil. NANO Equipment DL-100 ist ein ideales System für hochpräzise Muster und Prozesse. Seine Kombination aus leistungsstarker Optik, fortschrittlicher Software, mehrachsiger Steuerung und präziser Ausrichtung kann leicht das höchste Maß an Genauigkeit und Geschwindigkeit für den Waferprozess erreichen. Mit seinem vielseitigen Design können DL-100 eine breite Palette von Anwendungen unterstützen, einschließlich 3D-Musterung, Tiefätzen und Dünnschichtabscheidung.