Gebraucht OAI 208S #9219993 zu verkaufen

Hersteller
OAI
Modell
208S
ID: 9219993
Wafergröße: 8”
Mask aligner, 8” 2000 Watt NUV bulb 365nm / 400nm Wavelength over 20 mW / Cm² 9" x 9" Square final lens for 8" x 8" exposure Mask holder: 9" x 9" Square substrate holder: 8" x 8" (2) NAVITAR Video tubes MITUTOYO Objectives: 5x (2) Flat panel displays LED Illumination cameras.
OAI 208S ist ein Masken-Aligner, eine industrielle Photolithographie-Maschine, die ein vorgegebenes Muster auf einen Silizium-Wafer projiziert, um eine Schaltungstopologie von integrierten Schaltungen bei der Herstellung von Chips zu erzeugen. 208S ist eine hochpräzise Maschine, die eine fein detaillierte und genaue Übertragung des projizierten Musters auf den Wafer ermöglicht. OAI 208S Modell verfügt über eine Doppellenkung, die eine verbesserte Schienenstabilität und Verarbeitungsgenauigkeit bietet. Dieses Modell verfügt auch über ein optisches Gleichrichtungssystem, das Korrekturen für die Winkelverzerrung des Maskenmusters vorsieht. Darüber hinaus verfügt 208S über ein breites Ausrichtungsfeld, das große und komplexe Konstruktionsmuster unterstützt. OAI 208S ist eine Vollfeld-Photolithographie-Maschine, die einen HeNe-Gaslaser verwendet, um das Muster auf dem Wafer zu belichten. Die beiden Achsen der Maschine sind für die Richtung des Maskenmusters programmierbar, was eine verbesserte Genauigkeit der Ausrichtung gewährleistet. Der Wafer wird auf einem Spannfutter gehalten und durch einen Filter mit UV-Licht aus dem Laser belichtet. Nach dem Belichten des Wafers wird ein transparentes, flüssigkeitsgekühltes Fenster zur Fokussierung verwendet. Dieses Fenster hilft, die Genauigkeit während des gesamten Belichtungsprozesses aufrechtzuerhalten. 208S verfügt über eine direkte Bildüberlagerung, die die Genauigkeit verbessert. Diese Funktion ist wichtig, da es die Notwendigkeit, eine separate Maske für jede Schicht des Chips zu erstellen entfällt. Stattdessen wird das Muster einer Schicht mit der zuvor belichteten Schicht verglichen und die erforderlichen Anpassungen vorgenommen. Der Belichtungsprozess wird mit einer Digital Image Control Unit (DICS) automatisiert und überwacht. Diese Maschine ermöglicht die Einstellung des Lichtpegels und des Belichtungsmusters während der Belichtung des Wafers. Die Daten können dann gespeichert und analysiert werden, um konsistente Ergebnisse für wiederholte Prozesse zu gewährleisten. Insgesamt ist OAI 208S eine hochgenaue und zuverlässige Photolithographie-Maschine, die entwickelt wurde, um identische integrierte Schaltungen schnell und effektiv herzustellen. Sie ist in der Lage, ein vorgegebenes Muster schnell und genau auf einen Siliziumwafer zu projizieren und für eine Reihe von Konstruktionen einstellbar. Dieser Maskenausrichter bietet ein zuverlässiges Verfahren, um immer wieder gleiche Schaltungen herzustellen.
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