Gebraucht OAI 30-079-31 #9026299 zu verkaufen

OAI 30-079-31
Hersteller
OAI
Modell
30-079-31
ID: 9026299
Edge bead remover.
OAI 30-079-31 ist ein Masken-Aligner für Fotolithographie und Fotografie. Es wird verwendet, um mit Hilfe der Maskierung eine breite Palette von Substraten und Materialien wie Glas, Silizium, Matrizen, Leiterplatten und Wafer zu verarbeiten. 30-079-31 Maskenausrichter verfügt über einen großen klaren Substratbereich und einen berührungslosen, zerstörungsfreien Belichtungsmechanismus. Es ist mit mehreren Hightech-Maschinen ausgestattet, darunter ein fortschrittlicher Ionenbeschleunigungsmesser, der eine verbesserte Ausrichtgenauigkeit ermöglicht, und ein großer Kollimator, der ein homogenes Bestrahlungsmuster gewährleistet. Darüber hinaus verfügt sein erweiterbares und gut strukturiertes optisches System über viele technische Fähigkeiten, einschließlich der Fähigkeit, Substrate bis zu einer Größe von 2000 mm zu verarbeiten, und sein fortschrittliches Machine-Vision-System ermöglicht komplexe Muster und Bildanalysen. Für die Strukturierung verwendet OAI 30-079-31 geradlinige, kreisförmige oder Matrixausrichtungstechniken. Darüber hinaus ermöglichen seine Schrittmotoren eine hochpräzise Einstellung und verfügen über eine hervorragende Zeigegenauigkeit, die maximale Flexibilität und Kontrolle bei der Anwendung von Mustern ermöglicht. Darüber hinaus ist das Gerät auch sehr konfigurierbar und in der Lage, verschiedene Parameter zu programmieren. Solche Parameter umfassen die Anzahl der Belichtungen, Linsenleistung, Belichtungszeit, Impulswiederholungsrate, bestrahlte Fläche und Wellenlänge. Sein Design verfügt auch über benutzerfreundliche Software mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche (GUI). 30-079-31 ist aufgrund seines breiten Spektrums an Prozessen und Konfigurationen für den Einsatz in einer Vielzahl von Branchen konzipiert. Es hat sich in der Automobil-, Optoelektronik-, Luft- und Raumfahrt, Halbleiter- und Leiterplattenherstellung (PCB) bewährt. Insgesamt erleichtert der Maskenausrichter OAI 30-079-31 das Photolithographie- und Fotografierverfahren für eine breite Palette von Materialien und Substraten. Es ermöglicht eine präzise und zuverlässige Ausrichtung und ist zudem mit einer benutzerfreundlichen GUI hochkonfigurierbar. Es ist ein ideales Werkzeug für eine Vielzahl von Branchen, von der Automobil- bis zur Optoelektronik.
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