Gebraucht OAI 804 TSA #9311625 zu verkaufen

OAI 804 TSA ist ein Masken-Aligner, der von OAI (Opto-Automated Imaging) für den industriellen Lithographieprozess entwickelt wurde. Es handelt sich um ein hochpräzises Instrument, das in der Halbleiterherstellung eingesetzt wird und dafür verantwortlich ist, ein Muster von Photomasken genau auf einen Halbleiterwafer zu legen. Es ist besonders nützlich, um Muster von winzigen Merkmalen, wie sie für die Herstellung einer integrierten Schaltung erforderlich sind, auf den Wafer zu übertragen. 804 TSA besteht aus drei Teilen: dem optischen System, dem Mikrostepper und dem Detektor. Das optische System ist für den Empfang von Licht verantwortlich, das von der Fotomaske reflektiert wird, die zur Bildung des Designs verwendet wird; es teilt auch das einfallende Licht in zwei Komponenten: linear und winkelförmig. Die Winkelkomponente dient zur Messung der Position des Wafers zur Photomaske. Das lineare Bauelement ist dafür verantwortlich, Licht auf den Detektor zu fokussieren, der zur Messung von Abständen und Winkeln zwischen Merkmalen auf der Photomaske und denen auf dem Wafer dient. Die Genauigkeit der OAI 804 TSA wird erreicht, indem der Wafer mit einem Mikrostepper in die exakte, vorgegebene Position bewegt wird. Der Mikrostepper ist für die Steuerung der Bewegung des Wafers mit einer Sub-Nanometer-Genauigkeit verantwortlich. Dadurch können CAD-Dateien exakt auf den Wafer übertragen werden, der dann bei der Herstellung von Halbleiterchips verwendet werden kann. 804 TSA ist mit einem Detektor ausgestattet, der eine Bildausrichtung bei mehreren Belichtungen ermöglicht. Dieser Detektor dient sowohl der statischen als auch der dynamischen Ausrichtung. Statische Ausrichtung verwendet Laser, um einzelne Belichtungen schnell auszurichten; während der dynamischen Ausrichtung das Videobildsystem verwendet, um die Maskenposition in Echtzeit zu überwachen und sicherzustellen, dass die Mehrfachbelichtungen genau auf den Wafer ausgerichtet sind. Insgesamt ist OAI 804 TSA ein wesentliches Werkzeug für die industrielle Lithographie, das benötigt wird, um Designs genau auf den Halbleiterwafer zu übertragen. Sein präzises Mikrosteuern und Detektor ermöglichen die Übertragung hochpräziser Bilder und gewährleisten höchste Fertigungsgenauigkeit.