Gebraucht OAI 804MBA-086265 #9384029 zu verkaufen

Hersteller
OAI
Modell
804MBA-086265
ID: 9384029
Mask aligner, parts system Front and backside 0130-043-16 Lamp housing Mirror: 260 NM Sensor: 260 / 365 NM Lamp: 500W DUV, 0.20" Exhaust: H2O Nanolitho solutions vacuum chuck and controller (2) Computer monitors Manuals included.
OAI 804MBA-086265 ist ein hochgenauer optischer Maskenausrichter, der für automatisierte Lithographieoperationen geeignet ist. Dieser Masken-Aligner ermöglicht die serienmäßige Produktion integrierter Schaltungen, da er mit seiner schnellen Durchsatzausrichtung auf 0,2 Mikrometer den Durchsatz erhöhen kann. Es ist mit State Core-Ausrichteinrichtungen ausgestattet, die aus zwei Ausrichtungskameras und vier unabhängigen Laserkanälen bestehen. Dies ermöglicht präzise Ausrichtungsmöglichkeiten von Submikron (< 0,5 Mikron) optischen Photolithographiemasken. 804MBA-086265 verfügt zudem über ein automatisiertes Eintauchlinsen-Fokus- und Ausrichtungssystem, das in der Lage ist, die Oberfläche des Wafers innerhalb von 9,6 µm Genauigkeit zu messen und jedes Mal einen hohen Präzisionsfokus zu erzielen. Dadurch wird sichergestellt, dass beliebig viele Masken auch ohne manuellen Eingriff genau ausgerichtet und fokussiert werden können. Der aligner ist auch mit der Digitalmustergeneration mit seiner Hochgeschwindigkeitselektronbalkenschreibeneinheit vereinbar, schnelle Herstellung von einfachen Masken berücksichtigend. Dieser Masken-Aligner ist ideal für die Herstellung empfindlicher Strukturen mit kleinen Funktionsgrößen, da die optischen Ausrichtungsexperten aufgrund seiner High Contrast Imaging (HCI), die sowohl den Durchsatz als auch die Auflösung optimiert, in der Lage sind, kleine Funktionen bis zu 0,1 Mikrometer und Funktionsgrößen kleiner als 0,5 Mikrometer abzubildern. Darüber hinaus bietet OAI 804MBA-086265 mehrere optische Modi für verschiedene Prozesse, um wiederholbare, genaue Leistung zu gewährleisten. Es ist benutzerfreundlich, da es den Aufbau mehrerer Masken durch verschiedene CAD-Systeme über mehrere Plattformen ermöglicht und eine einfache Integration mit modernen lithographischen Werkzeugen ermöglicht. Es unterstützt auch mehrere Substratgrößen und Toleranzen und bietet zuverlässigen Betrieb in Serienumgebungen. Dies macht es für den Einsatz in Halbleiterherstellungsanlagen, universitären Forschungslabors und anderen Einstellungen geeignet, in denen Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit erforderlich sind. Dieser fortschrittliche Masken-Aligner wurde entwickelt, um maximale Effektivität mit minimierter Beteiligung der Bediener, erhöhtem Durchsatz, verbesserter Ausrichtungsgenauigkeit, reduzierten Zykluszeiten, verbesserter Maschinenleistung und effizienterem Einsatz von Arbeit zu bieten. Diese kostengünstige Lösung ist auf eine hohe Kompatibilität mit einer Reihe fortschrittlicher Lithographieverfahren ausgelegt. Dadurch ist eine einfache Integration fortschrittlicher Lithographiewerkzeuge in bestehende Fertigungsprozesse gewährleistet. 804MBA-086265 wurde entwickelt, um die beste Option für Kunden zu sein, die nach der Fähigkeit suchen, einen optimalen Durchsatz und Kosteneffizienz bei der Produktion von integrierten Schaltkreisen in hoher Stückzahl zu erreichen.
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