Gebraucht OAI HYBRALIGN 500 #133785 zu verkaufen

OAI HYBRALIGN 500 ist ein leistungsstarker Maskenausrichter, ideal für fortschrittliche Mustertechnologie bei der Herstellung integrierter Schaltungen. Das Gerät ist in drei Modellen erhältlich: HYBRALIGN 500A, 500B und 500C, die jeweils für unterschiedliche Dicken von Masken und Substrat ausgelegt sind. HYBRALIGN 500 ist mit einem Projektionsbildgerät ausgestattet, das mit einer Wellenlänge von 400 nm arbeitet, um Laserlicht, das durch eine Maske übertragen wird, auf den Photolack des Substrats zu legen. Das System ist dann in der Lage, die Positionen von Ausrichtungsmarken auf Maske und Substrat durch ein vorhandenes oder neu projiziertes Muster zu erfassen. Eine präzise motorisierte Stufe wird auch verwendet, um Ausrichtungen innerhalb von nur 2 Mikrometern genau anzustreben. Die Einheit ist in der Lage, vor jedem Ausrichtungs- und Belichtungsschritt Photoresist-Beschichtungen aufzubringen und verwendet fortschrittliche Muster-Anpassungsalgorithmen, um eine hochpräzise Ausrichtung durchzuführen. Optionale Funktionen wie automatische Musteranpassung, On-the-Fly-Fehlerkorrektur und harte Echtzeitausrichtung können hinzugefügt werden, um die Effizienz, den Durchsatz und die Gesamtkosten zu erhöhen. OAI HYBRALIGN 500 profitiert auch von einem kompakten, modularen Aufbau, der minimalen Platz einnimmt, mit einer modularen Bewegungsmaschine, die den Anforderungen einer Reihe von Produktionsaufgaben und -technologien gerecht wird. Anpassbare Softwarepakete sind verfügbar, um die Übertragung wesentlicher Daten wie Ausrichtungs- und Belichtungsmarken zu erleichtern. Die benutzerfreundliche grafische Oberfläche bietet Anwendern die Möglichkeit, Belichtungsparameter einzustellen und Daten ohne komplexe Codierung anzuzeigen. Darüber hinaus entspricht HYBRALIGN 500 den SEMI-Industriestandards und wird durch vollständige technische Unterstützung ergänzt, um maximale betriebliche Effizienz und Leistung zu gewährleisten. Es ist die ideale Lösung für fortschrittliche Lithographietechnologie, die eine hochpräzise Maskenausrichtung und Mustertransfer erfordert.