Gebraucht OAI Hybralign Series 400 #9096376 zu verkaufen
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ID: 9096376
Wafergröße: 8"
Mask aligner, 8"
10" Collimated beam with mask holder
Nikon Stereozoom optics
Bulb, 350W.
Die OAI Hybralign Series 400 ist ein Masken-Aligner, der präzise und hochwertige Masken für photolithographische Anwendungen in der Halbleiterindustrie herstellt. Es verwendet ein modernes optisches Bildgebungssystem, das Bild- und Ätzfunktionen so klein wie zwei Mikrometer in der Größe kann. Der Maskenausrichter verfügt über eine Waferstufe, die eine Wiederholbarkeit von drei Mikrometern erreichen kann. Die Bühne kann große Wafer mit einem maximalen Durchmesser von 300 Millimetern aufnehmen. Hybralign Series 400 verwendet eine Kombination aus Mikroskopen und Laserausrichtung, um die Maskenmuster exakt auf den Wafer auszurichten. Es verwendet ein hochauflösendes optisches Lichtmikroskop mit einer bis zu 10fachen Vergrößerung, um die Ausrichtung der Muster genau zu erkennen und scharf zu sperren. Darüber hinaus ermöglicht das Laserausrichtungssystem eine hochpräzise Abtastung des Wafers, um das Bild mit vier oder fünf Referenzpunkten auszurichten. Die Ausrichtgenauigkeit des Hybralign ist äußerst präzise, mit einer Repositioniergenauigkeit von +/- 0,5 μ m. Dadurch wird sichergestellt, dass die Merkmale der Maskenmuster genau und genau auf dem Wafer wiedergegeben werden. Sie ist auch in der Lage, je nach gewünschter Anwendung Schichten mit unterschiedlichen Tiefen zu ätzen. Die OAI Hybralign Series 400 verfügt zudem über eine benutzerfreundliche Oberfläche, mit der Benutzer Aufträge schnell einrichten und ausführen können. Es ist auch so konzipiert, dass es mit GDS II-Formatdateien kompatibel ist, wodurch es einfacher ist, die Maskenmuster zu lesen und zu visualisieren. Zusätzlich kann der Einrichtungs- und Ausrichtungsprozess über das Bedienfeld fernüberwacht werden. Insgesamt ist die Hybralign Serie 400 ein hochpräziser Maskenausrichter, der speziell für photolithographische Anwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das fortschrittliche optische Bildgebungs- und Laserausrichtungssystem sorgt dafür, dass es präzise und hochwertige Masken mit einer Positioniergenauigkeit von bis zu 0,5 μ m herstellen kann. Darüber hinaus ermöglicht die benutzerfreundliche Benutzeroberfläche das schnelle Einrichten und Ausführen von Jobs und ist auch GDS II-Format kompatibel.
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