Gebraucht ORIEL 82330 #188526 zu verkaufen

ORIEL 82330 ist ein automatisierter Maskenausrichter, der in der Feldhalbleiterlithographie eingesetzt wird. Es hat eine maximale Belichtungswellenlänge von 325nm, eine seitliche Auflösung von 50nm, eine Fokustiefe von 3um und eine feine Bewegungsgeschwindigkeit von 2um/sec. Die präzise Positionierung wird durch eine XY-Tabelle mit 0.5um Auflösung gesteuert. Die flache Basisplatte ermöglicht flache Substrate von bis zu 8,5 mal 4,5 Zoll mit einer maximalen Dicke von 1 mm und einem maximalen Gewicht von 4 kg. Die Platte ist langlebig und verfügt über ein neu gestaltetes Absaugsystem für weniger Wartung. Auf diese Weise können Proben sicher an Ort und Stelle für eine höhere Genauigkeit der Ausrichtung gehalten werden. 82330 bietet auch ein Autofokus-System, eine proprietäre Waferausrichtungssoftware und ein Belichtungsprotokoll. Dies ermöglicht eine hochgenaue Ausrichtung des Musters über dem Substrat und zeichnet die auf der Speicherkarte verwendeten Fokusbedingungen und Belichtungsparameter auf. Das Autofokus-System ist zudem in der Lage, die Fokussierung auf das gesamte Sichtfeld für höhere Präzisionsergebnisse zu optimieren. Die ORIEL 82330 ist mit einem elektronenstrahlkompatiblen Beschichtungsmodul zur Vor-Ort-Beschichtung von Photolack ausgestattet. Bemerkenswerte Merkmale dieses Moduls sind eine Vakuumbeschichtungsbasis, bearbeitbare Temperaturen bis 100 Grad Celsius und eine nebelfreie Beschichtung. Die Suite an Laboranlagen für die thermische Verarbeitung ist auf Anwendungen wie Entgasen, Spinnen und Backen zugeschnitten. Es umfasst einen Zehn-Stationen-Spinner mit einstellbarer Geschwindigkeit von 0 bis 2000 U/min, eine Kochplatte mit Temperaturen bis 400 Grad Celsius, einen zweistufigen Vakuumofen und eine In-situ-Kühlstation. 82330 verfügt über eine Vielzahl automatisierter Werkzeuge, die die Halbleiterlithographie vereinfachen. Die Vakuumkammer hat eine einstellbare Höhe, um verschiedene Proben aufzunehmen, während die Ausrichtwerkzeuge eine genaue Ausrichtung und eine präzise Rückseitenmusterung gewährleisten. Das Beschichtungsmodul sorgt auch für eine gleichmäßige Abdeckung des Fotolacks, und Verarbeitungswerkzeuge ermöglichen ein schnelles und gleichmäßiges Backen von Proben. Dieser Aligner wurde entwickelt, um sich einfach mit anderen Laborgeräten zu integrieren, um die genauen Anforderungen jeder Halbleiterlithographie-Anwendung zu erfüllen.