Gebraucht PERKIN ELMER 300 #9174286 zu verkaufen

PERKIN ELMER 300 ist ein Masken-Aligner für die Photolithographie - ein Verfahren, mit dem Muster auf einem Substrat erzeugt werden. Es ist ein hochpräzises Ausrichtungswerkzeug, das verwendet wird, um die Merkmale aus einer Photomaske auf einen Siliziumwafer oder andere Substrate genau zu reproduzieren. 300 wird insbesondere für photolithographische Verfahren in Halbleiter- und anderen verwandten Industrien eingesetzt. PERKIN ELMER 300 arbeitet mit einer x-Achse, y-Achse und Theta (θ) Achse. Es kann alle drei Ebenen der Ausrichtung durchführen: eindimensional, zweidimensional und dreidimensional. Die x-Achse und y-Achse sind für die seitliche Positionierung und die Theta-Achse für die Drehausrichtung verantwortlich. Die Präzisionsausrichtung von 300 sorgt dafür, dass das Muster auf der Photomaske genau auf der Halbleiterscheibe wiedergegeben wird. Dies wird erreicht, indem das Siliziumsubstrat mit der x-Achse, y-Achse und Theta-Achse der Maschine exakt auf die Photomaske ausgerichtet wird. PERKIN ELMER 300 verwendet optische Seherkennung und automatische Ausrichtungstechniken für den Ausrichtungsprozess. Die optische Seherkennungseinrichtung erkennt das Muster auf dem Substrat, während die automatische Ausrichtung automatisch den Ausrichtvorgang durchführt. Zusätzlich ist 300 mit einer einstellbaren Öffnung ausgestattet, die eine Einstellung der Belichtungsdosis der Fotomaske auf das Substrat ermöglicht. Dies hilft, die Variabilität des Lithographieprozesses zu verringern und die Genauigkeit des Mustertransfers zu erhöhen. PERKIN ELMER 300 verfügt auch über eine bildgebende Einheit, die ultraviolettes und sichtbares Licht verwendet, um das Substrat und die Lichtempfindlichkeit der verwendeten Materialien zu überprüfen. Diese Inspektion hilft, Fehler oder Unregelmäßigkeiten im Substrat vor der Bildgebung zu erkennen. Die Maschine kann auch zur Messung der Dicke und Stufenhöhe des Substrats sowie zur Erzeugung von Querschnittsbildern verwendet werden. 300 ist ein leistungsfähiges und effizientes Werkzeug, das von vielen Laboren für photolithographische Prozesse eingesetzt wird. Es ist einer der am weitesten verbreiteten Maskenausrichter in der Halbleiterindustrie, da es eine schnelle und genaue Methode für den Mustertransfer von einer Photomaske auf ein Substrat bietet. Die einfache Bedienung und hohe Präzision von PERKIN ELMER 300 macht es zu einer idealen Wahl für Unternehmen und Labore in der Halbleiterindustrie.